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1. (WO2018096610) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
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N° de publication : WO/2018/096610 N° de la demande internationale : PCT/JP2016/084744
Date de publication : 31.05.2018 Date de dépôt international : 24.11.2016
CIB :
H01J 37/20 (2006.01) ,H01J 37/28 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
20
Moyens de support ou de mise en position de l'objet ou du matériau; Moyens de réglage de diaphragmes ou de lentilles associées au support
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26
Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
28
avec faisceaux de balayage
Déposants :
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
Inventeurs :
三羽 貴文 MIWA Takafumi; JP
菅野 誠一郎 KANNO Seiichiro; JP
宮 豪 MIYA Go; JP
Mandataire :
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) CHARGED-PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線装置
Abrégé :
(EN) The purpose of the present invention is to provide a charged-particle beam device capable of eliminating foreign matter adhered on an electric field correction electrode (201) disposed in an outer peripheral portion of a measurement sample. This charged-particle beam device has a sample stage (108) for setting the measurement sample and an electric field correction electrode (201) for correcting an electric field near the outer peripheral portion of the measurement sample, and performs the measuring of the measurement sample by irradiating the sample with a charged-particle beam. A foreign matter eliminating control unit (122) controls a power source connected to the electric field correction electrode (201) in such a manner that the absolute value of the voltage applied to the electric field correction electrode (201) is equal to or greater than the absolute value of the voltage applied to the electric field correction electrode (201) when measuring the measurement sample.
(FR) La présente invention vise à fournir un dispositif à faisceau de particules chargées permettant d'éliminer des corps étrangers adhérant à une électrode de correction de champ électrique (201) disposée dans une partie périphérique extérieure d'un échantillon de mesure. Ce dispositif à faisceau de particules chargées comporte une platine porte-échantillon (108) pour placer l'échantillon de mesure et une électrode de correction de champ électrique (201) pour corriger un champ électrique à proximité de la partie périphérique extérieure de l'échantillon de mesure, et effectue la mesure de l'échantillon de mesure en irradiant l'échantillon avec un faisceau de particules chargées. Une unité de commande d'élimination de corps étrangers (122) commande une source d'alimentation reliée à l'électrode de correction de champ électrique (201) de telle sorte que la valeur absolue de la tension appliquée à l'électrode de correction de champ électrique (201) est égale ou supérieure à la valeur absolue de la tension appliquée à l'électrode de correction de champ électrique (201) lors de la mesure de l'échantillon de mesure.
(JA) 測定試料の外周部に配置される電界補正用電極(201)に付着した異物を除去可能な荷電粒子線装置を提供するために、測定試料を設置する試料ステージ(108)と、測定試料の外周部近傍の電界を補正する電界補正用電極(201)とを有し、荷電粒子線を照射することにより測定試料の測定を行う荷電粒子線装置において、異物除去制御部(122)は、電界補正用電極(201)へ印加される電圧の絶対値が、測定試料を測定する際に電界補正用電極(201)に印加される電圧の絶対値以上となるように電界補正用電極(201)に接続された電源を制御する。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)