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1. (WO2018092657) FILM OPTIQUE, FILM DE PROTECTION DE PLAQUE POLARISANTE, PLAQUE POLARISANTE COMPRENANT CES FILMS, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE COMPRENANT CES FILMS
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N° de publication :    WO/2018/092657    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/040271
Date de publication : 24.05.2018 Date de dépôt international : 08.11.2017
CIB :
G02B 5/30 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), B32B 27/00 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01)
Déposants : KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 2-7-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015 (JP)
Inventeurs : MOMMA, Chiaki; (JP).
OISHI, Kiyoshi; (JP).
SUZUKI, Issei; (JP)
Mandataire : HATTA & ASSOCIATES; Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-225322 18.11.2016 JP
Titre (EN) OPTICAL FILM, POLARIZING PLATE PROTECTION FILM, POLARIZING PLATE INCLUDING THESE FILMS, AND DISPLAY DEVICE INCLUDING THESE FILMS
(FR) FILM OPTIQUE, FILM DE PROTECTION DE PLAQUE POLARISANTE, PLAQUE POLARISANTE COMPRENANT CES FILMS, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE COMPRENANT CES FILMS
(JA) 光学フィルム、偏光板保護フィルム、およびこれらを含む偏光板、ならびにこれらを含む表示装置
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a means which enables the achievement of good crack resistance, and durability and adhesiveness under a high-temperature and high-humidity environment of a cyclic polyolefin film for optics application. The present invention relates to an optical film comprising a cyclic polyolefin film and a stress relaxation layer disposed on the cyclic polyolefin film, wherein the stress relaxation film contains Si atoms, O atoms and C atoms, and an average value XAVE in a thickness direction of a ratio X(%) of a C-C bond to the sum total of peak intensities resulting from C-C, C-SiO, C-O, C=O and C(=O)-O bonds at each measurement position found from a depth profile of a C1s spectral region measured by X-ray photoelectron spectroscopy of the stress relaxation layer is 1-40% inclusive.
(FR)La présente invention concerne un moyen qui permet d'obtenir une bonne résistance à la fissuration, et une durabilité et une adhésivité dans un environnement à haute température et humidité élevée d'un film de polyoléfine cyclique pour application optique. La présente invention concerne un film optique comprenant un film de polyoléfine cyclique et une couche de relaxation de contrainte disposée sur le film de polyoléfine cyclique, le film de relaxation de contrainte contenant des atomes de Si, O et C, et une valeur moyenne X AVE dans une direction d'épaisseur d'un rapport X (%) d'une liaison C-C à la somme totale des intensités de pic résultant de C-C, C-SiO, C-O, C = O et C (=O)-O à chaque position de mesure trouvée à partir d'un profil de profondeur d'une région spectrale C1s mesurée par spectroscopie photoélectronique à rayons X de la couche de relaxation des contraintes est de 1 à 40 % inclus.
(JA)本発明は、光学用途の環状ポリオレフィンフィルムについて、良好なクラック耐性、高温高湿環境下における耐久性、および接着性を両立させうる手段を提供する。本発明は、環状ポリオレフィンフィルムと、前記環状ポリオレフィンフィルム上に配置された応力緩和層と、を有し、前記応力緩和層は、Si原子、O原子およびC原子を含有し、かつ、前記応力緩和層のX線光電子分光法により測定されるC1sスペクトル領域のデプスプロファイルから求められる、各測定位置におけるC-C、C-SiO、C-O、C=OおよびC(=O)-Oの各結合に由来するピーク強度の総和に対するC-C結合の割合X(%)の、厚さ方向の平均値XAVEが1%以上40%以下である、光学フィルムに関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)