WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2018091604) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'UNE ZONE PARTIELLE D'UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/091604    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/079502
Date de publication : 24.05.2018 Date de dépôt international : 16.11.2017
CIB :
G03F 1/82 (2012.01), G03F 1/64 (2012.01), B08B 1/00 (2006.01)
Déposants : SÜSS MICROTEC PHOTOMASK EQUIPMENT GMBH & CO. KG [DE/DE]; Ferdinand-von-Steinbeis Ring 10 75447 Sternenfels (DE)
Inventeurs : DATTILO, Davide; (DE).
DIETZE, Uwe; (US).
SAMAYOA, Martin; (US)
Mandataire : KLANG, Alexander H.; (DE)
Données relatives à la priorité :
15/352,886 16.11.2016 US
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR CLEANING A PARTIAL AREA OF A SUBSTRATE
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'UNE ZONE PARTIELLE D'UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus and a method for cleaning a partial area of a substrate, in particular a photomask, are described. The apparatus has a cleaning head having a lower surface configured to be arranged above and in close proximity to the substrate area to be cleaned, the lower surface having a central opening formed therein, a first annular groove, surrounding the central opening, and at least a second groove, arranged between the first annular groove and the central opening, the first annular groove being fluidly connected to a first port allowing connection to an external supply source and the second annular groove being fluidly connected to a second port allowing connection to an external supply source, a tape supply mechanism arranged to supply an abrasive tape to the central opening in the lower surface of the cleaning head, such that a portion of the abrasive tape protrudes therefrom and a liquid media conduit having an outlet arranged to supply a liquid to a backside of the abrasive tape at or at the vicinity of the central opening. In the method a protruding portion of an abrasive tape, which protrudes from a central opening of a cleaning head is placed in contact with the area of the substrate to be cleaned to thereby bring a lower surface of the cleaning head in close proximity to the substrate area to be cleaned. A liquid is supplied to a backside of the abrasive tape at or at the vicinity of the central opening of the cleaning head, such that at least the portion of the abrasive tape protruding from the central opening is wetted, and a relative movement is caused between the abrasive tape and the surface area of the substrate to be cleaned. The method also encompasses applying a cleaning fluid to the substrate area to be cleaned via at least one first groove or the at least one second groove in the lower surface of the substrate and applying a suction force to the other groove.
(FR)L'invention concerne un appareil et un procédé de nettoyage d'une zone partielle d'un substrat, en particulier un photomasque. L'appareil comporte une tête de nettoyage comportant une surface inférieure conçue pour être agencée au-dessus et à proximité immédiate de la zone du substrat à nettoyer, la surface inférieure comportant une ouverture centrale formée dans celle-ci, une première rainure annulaire entourant l'ouverture centrale, et au moins une deuxième rainure, agencée entre la première rainure annulaire et l'ouverture centrale, la première rainure annulaire étant en communication fluidique avec un premier orifice pouvant être relié à une source d'alimentation externe, et la seconde rainure annulaire étant en communication fluidique avec un second orifice pouvant être relié à une source d'alimentation externe ; un mécanisme d'apport de bande, conçu pour fournir une bande abrasive à l'ouverture centrale formée dans la surface inférieure de la tête de nettoyage, de sorte qu'une partie de la bande abrasive fasse saillie à partir de l'ouverture ; et un conduit de milieu liquide comportant un orifice de sortie, conçu pour fournir un liquide à une face arrière de la bande abrasive, au niveau ou au voisinage de l'ouverture centrale. Dans le procédé, une partie en saillie d'une bande abrasive, qui fait saillie à partir de l'ouverture centrale d'une tête de nettoyage, est mise en contact avec la zone du substrat à nettoyer de façon à amener la surface inférieure de la tête de nettoyage à proximité immédiate de la zone de substrat à nettoyer. Un liquide est fourni à la face arrière de la bande abrasive au niveau ou au voisinage de l'ouverture centrale de la tête de nettoyage, de sorte qu'au moins la partie de la bande abrasive faisant saillie à partir de l'ouverture centrale soit mouillée, et un mouvement relatif est produit entre la bande abrasive et la zone de surface du substrat à nettoyer. Le procédé consiste également à appliquer un fluide de nettoyage sur la zone de substrat à nettoyer, par l'intermédiaire d'au moins une première rainure ou de la ou des deuxième(s) rainure(s) formée(s) dans la surface inférieure du substrat ; et à appliquer une force d'aspiration sur l'autre rainure.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)