WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2018089411) TRAITEMENT DE SURFACE POUR LITHOGRAPHIE EUV
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/089411    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/060519
Date de publication : 17.05.2018 Date de dépôt international : 08.11.2017
CIB :
H01L 21/033 (2006.01), H01L 21/02 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : ZENG, Weimin; (US).
CAO, Yong; (US).
DIEHL, Daniel Lee; (JP).
PHAN, Khoi; (US).
DAI, Huixiong; (US).
NGAI, Christopher S.; (US)
Mandataire : BLANKMAN, Jeffrey I.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/421,345 13.11.2016 US
Titre (EN) SURFACE TREATMENT FOR EUV LITHOGRAPHY
(FR) TRAITEMENT DE SURFACE POUR LITHOGRAPHIE EUV
Abrégé : front page image
(EN)Processing methods comprising depositing an initial hardmask film on a substrate by physical vapor deposition and exposing the initial hardmask film to a treatment plasma comprising a silane compound to form the hardmask.
(FR)L'invention concerne des procédés de traitement comprenant le dépôt d'un film de masque dur initial sur un substrat par dépôt physique en phase vapeur et l'exposition du film de masque dur initial à un plasma de traitement comprenant un composé de silane pour former le masque dur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)