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1. (WO2018089351) COMMANDE GÉOMÉTRIQUE DE PILIERS DE FOND POUR DES APPLICATIONS DE FORMATION DE MOTIFS
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N° de publication :    WO/2018/089351    N° de la demande internationale :    PCT/US2017/060368
Date de publication : 17.05.2018 Date de dépôt international : 07.11.2017
CIB :
H01L 21/768 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : DUAN, Ziqing; (US).
MALLICK, Abhijit Basu; (US)
Mandataire : BLANKMAN, Jeffrey I.; (US)
Données relatives à la priorité :
62/419,228 08.11.2016 US
Titre (EN) GEOMETRIC CONTROL OF BOTTOM-UP PILLARS FOR PATTERNING APPLICATIONS
(FR) COMMANDE GÉOMÉTRIQUE DE PILIERS DE FOND POUR DES APPLICATIONS DE FORMATION DE MOTIFS
Abrégé : front page image
(EN)Processing methods comprising selectively replacing a first pillar material with a second pillar material in a self-aligned process are described. The first pillar material may be grown orthogonally to the substrate surface and replaced with a second pillar material to leave a substantially similar shape and alignment as the first pillar material.
(FR)L'invention concerne des procédés de traitement comprenant le remplacement sélectif d'un premier matériau de pilier avec un second matériau de pilier dans un processus auto-aligné. Le premier matériau de pilier peut être amené à croître orthogonalement à la surface du substrat et remplacé par un second matériau de pilier pour laisser une forme et un alignement sensiblement similaires à celui du premier matériau de pilier.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)