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1. (WO2018088853) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF D'UN DISPOSITIF À CRISTAUX LIQUIDES DE GRANDE SURFACE

Pub. No.:    WO/2018/088853    International Application No.:    PCT/KR2017/012753
Publication Date: Fri May 18 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Nov 11 00:59:59 CET 2017
IPC: B32B 43/00
B32B 27/36
B32B 27/28
B32B 27/32
H01B 5/14
G02F 1/1337
G02F 1/1335
G02F 1/1339
Applicants: LG CHEM, LTD.
주식회사 엘지화학
Inventors: PARK, Jeong Ho
박정호
LEE, Jin Soo
이진수
SHIN, Bu Gon
신부건
Title: PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF D'UN DISPOSITIF À CRISTAUX LIQUIDES DE GRANDE SURFACE
Abstract:
La présente invention concerne un procédé de formation d'un motif d'un dispositif à cristaux liquides de grande surface à l'aide d'un laser IR à commutation Q dans lequel le diamètre d'un faisceau laser est de 1 mm à 16 mm et l'énergie par impulsion est de 0,05 J à 2,5 J.