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1. (WO2018088738) FILM CONDUCTEUR, ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
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N° de publication : WO/2018/088738 N° de la demande internationale : PCT/KR2017/012054
Date de publication : 17.05.2018 Date de dépôt international : 30.10.2017
CIB :
B32B 5/16 (2006.01) ,B32B 15/16 (2006.01) ,B32B 15/20 (2006.01) ,B32B 15/02 (2006.01) ,H01B 1/02 (2006.01)
[IPC code unknown for B32B 5/16][IPC code unknown for B32B 15/16][IPC code unknown for B32B 15/20][IPC code unknown for B32B 15/02][IPC code unknown for H01B 1/02]
Déposants :
주식회사 엘지화학 LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 서울시 영등포구 여의대로 128 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 07336, KR
Inventeurs :
권태균 KWON, Tae Gyun; KR
윤영식 YOON, Young Sik; KR
박문수 PARK, Moon Soo; KR
Mandataire :
특허법인 다나 DANA PATENT LAW FIRM; 서울시 강남구 역삼로 3길 11 광성빌딩 신관 5층 5th Floor, New Wing, Gwangsung Bldg., 11, Yeoksam-ro 3-gil, Gangnam-gu, Seoul 06242, KR
Données relatives à la priorité :
10-2016-014921110.11.2016KR
Titre (EN) CONDUCTIVE FILM, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) FILM CONDUCTEUR, ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(KO) 전도성 필름 및 그 제조방법
Abrégé :
(EN) The present application relates to a conductive film and a manufacturing method therefor. The present application can confine actuated particles without going through a separate partition wall formation process, and can thereby simplify a manufacturing process and reduce manufacturing costs.
(FR) La présente invention concerne un film conducteur et son procédé de fabrication. La présente invention peut confiner des particules actionnées sans passer par un processus de formation de paroi de séparation distinct, et peut ainsi simplifier un processus de fabrication et réduire les coûts de fabrication.
(KO) 본 출원은 전도성 필름 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 출원은, 별도의 격벽 형성 공정을 거치지 않고도 구동성 입자를 가둘 수 있기 때문에, 제조 공정을 단순화 시키고, 제조비용을 절감할 수 있다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)