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1. (WO2018088536) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM MÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM MÉTALLIQUE

Pub. No.:    WO/2018/088536    International Application No.:    PCT/JP2017/040626
Publication Date: Fri May 18 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Nov 11 00:59:59 CET 2017
IPC: C23C 14/22
C23C 14/24
C23C 14/34
H05H 1/46
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
東京エレクトロン株式会社
OSAKA UNIVERSITY
国立大学法人大阪大学
Inventors: OHMI Hiromasa
大参 宏昌
YASUTAKE Kiyoshi
安武 潔
KUBOTA Yusuke
久保田 雄介
Title: DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM MÉTALLIQUE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM MÉTALLIQUE
Abstract:
L'invention concerne un dispositif de formation de film métallique qui utilise le procédé de transport chimique augmenté par plasma à pression atmosphérique (APECT). Ce dispositif comporte un dispositif de commande (7) qui commande une source d'énergie haute fréquence (6) et génère un plasma d'hydrogène autour d'un métal de départ (5) lorsque de l'hydrogène est introduit dans un récipient de traitement (1) par l'intermédiaire d'un orifice d'introduction d'hydrogène (4). Il est ainsi possible de former un film métallique, ce qui n'était pas possible avec les techniques antérieures, en configurant le dispositif d'une manière telle qu'une relation prescrite existe entre : la densité (A) de la puissance haute fréquence que la source de puissance haute fréquence (6) applique par unité de surface de la région de génération de plasma du métal de matériau de départ (5) ; la distance (B) entre le métal de départ (5) et un substrat (S) ; et la pression (C) autour du métal de départ (5) à l'intérieur du récipient de traitement (1).