Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2018088370) COMPOSITION DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE D'UNE TRANCHE DE SILICIUM

Pub. No.:    WO/2018/088370    International Application No.:    PCT/JP2017/039982
Publication Date: Fri May 18 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Nov 07 00:59:59 CET 2017
IPC: C09K 3/14
B24B 37/00
C09G 1/02
H01L 21/304
Applicants: FUJIMI INCORPORATED
株式会社フジミインコーポレーテッド
Inventors: AKIZUKI Reiko
秋月 麗子
TSUCHIYA Kohsuke
土屋 公亮
TANIGUCHI Megumi
谷口 恵
Title: COMPOSITION DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE D'UNE TRANCHE DE SILICIUM
Abstract:
L'invention concerne une composition de polissage et un procédé de polissage d'une tranche de silicium qui sont capables de conférer un degré élevé de planéité. La composition de polissage contient des particules abrasives et un composé basique. Les particules abrasives ont une viscosité de cisaillement d'au moins 1,3 mPa-s à une vitesse de cisaillement de 1 000/s dans un liquide de mesure de la viscosité de cisaillement ayant un pH de 11,3 et contenant des particules abrasives à une concentration de 17 % en poids et de l'hydroxyde de tétraméthylammonium.