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1. (WO2018088202) LIQUIDE NETTOYANT, ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2018/088202    International Application No.:    PCT/JP2017/038387
Publication Date: Fri May 18 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Oct 25 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 21/304
C11D 7/08
C11D 7/22
C11D 7/50
C11D 17/08
Applicants: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
東京応化工業株式会社
Inventors: GOTO Tatsuo
後藤 竜生
SEKI Kenji
関 健司
Title: LIQUIDE NETTOYANT, ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE SUBSTRAT
Abstract:
L’invention fournit un liquide nettoyant mis en œuvre afin d’éliminer des résidus de motif de photorésine, des résidus de gravure, ou similaire, et excellent en termes de propriétés anticorrosives vis-à-vis d’un nitrure de silicium, et fournit également un procédé de nettoyage de substrat mettant en œuvre ce liquide nettoyant. Un polymère qui sert d’agent anticorrosion (B), et qui contient une unité dérivée d’un composé de structure spécifique possédant une liaison acide carboxylique et amide (-CO-N<) et une double liaison insaturée, est mélangé au liquide nettoyant comprenant un acide fluorhydrique (A) et un solvant (S). De préférence, un polyvinyl pyrrolidone sert de polymère mis en œuvre en tant qu’agent anticorrosion (B).