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1. (WO2018087029) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR FIXER UN MASQUE DANS UNE POSITION PLANE
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N° de publication :    WO/2018/087029    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/078299
Date de publication : 17.05.2018 Date de dépôt international : 06.11.2017
CIB :
C23C 14/04 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01), C23C 14/50 (2006.01), C23C 14/54 (2006.01), C23C 14/22 (2006.01), C23C 14/56 (2006.01), B05C 21/00 (2006.01), H01L 51/00 (2006.01)
Déposants : AIXTRON SE [DE/DE]; Dornkaulstraße 2 52134 Herzogenrath (DE)
Inventeurs : GERSDORFF, Markus; (DE).
LEONTJEVS, Vladimirs; (DE)
Mandataire : GRUNDMANN, Dirk; (DE).
MÜLLER, Enno; (DE).
RIEDER, Hans-Joachim; (DE).
BRÖTZ, Helmut; (DE).
BOURREE, Hendrik; (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2016 121 375.6 08.11.2016 DE
Titre (DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR HALTERUNG EINER MASKE IN EINER PLANLAGE
(EN) DEVICE AND METHOD FOR SECURING A MASK IN A FLAT POSITION
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR FIXER UN MASQUE DANS UNE POSITION PLANE
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten zumindest eines Substrates durch Einspeisen eines Ausgangsstoffs in einen Prozessraum (2), mit einem Substrathalter (5) zur Aufnahme des zumindest einen Substrates (6) und einer Maske (7), die von einem Maskentransportsystem (8) vor dem Beschichten an die Oberfläche des Substrates (6) bringbar und nach dem Beschichten von der Oberfläche des Substrates (6) entfernbar ist, wobei die Maske (7) zumindest teilweise magnetisch oder magnetisch aktivierbar ist. Um zu vermeiden, dass sich beim Substrat-oder Maskenwechsel Partikel von der Maske lösen, sind magnetisch wirkende Masken-Stabilisierungsmittel (19, 20, 21, 22, 23) vorgese- hen, um die Maske (7) nach ihrer Entfernung von der Oberfläche des Substrates(6) in einer vorgegebenen Flächenerstreckungslage, insbesondere einer Planlage zu stabilisieren, wobei die Magnete (19)an einem Schirmelement (17) an- geordnet sind, welches zwischen die Maske (7) und einem Gaseinlassorgan (9) bringbar ist.
(EN)The invention relates to a device for coating at least one substrate by feeding a starting material into a process chamber (2), comprising a substrate holder (5) for receiving the at least one substrate (6) and a mask (7), which can be brought up to the surface of the substrate (6) before the coating and can be removed from the surface of the substrate (6) after the coating by a mask transporting system (8), wherein the mask (7) is at least partially magnetic or magnetically activatable. To avoid particles becoming detached from the mask during the changing of the substrate or mask, magnetically acting mask stabilizing means (19, 20, 21, 22, 23) are provided in order to stabilize the mask (7) after its removal from the surface of the substrate (6) in a predetermined position of a two-dimensional extent, in particular a flat position, wherein the magnets (19) are arranged on a shielding element (17), which can be brought between the mask (7) and a gas inlet element (9).
(FR)L'invention concerne un dispositif pour le revêtement d'au moins un substrat par injection d'une substance de départ dans un espace de traitement (2), présentant un support de substrat (5), destiné à recevoir ledit au moins un substrat (6) et un masque (7), qui peut être amené sur la surface du substrat (6) avant le revêtement et éliminé de la surface du substrat (6) après le revêtement, à l'aide d'un système de transport de masque (8), le masque (7) étant au moins partiellement magnétique ou magnétiquement activable. Pour éviter que des particules ne se détachent du masque lors du changement de substrat ou de masque, le dispositif présente des agents de stabilisation de masque (19, 20, 21, 22, 23) à effet magnétique, destinés à stabiliser le masque (7) après son élimination de la surface du substrat (6) dans une position d'extension surfacique prédéfinie, en particulier une position plane, les aimants (19) étant disposés au niveau d'un élément de protection (17) qui peut être amené entre le masque (7) et un organe d'admission de gaz (9).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)