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1. (WO2018086981) SUPPORT DE MASQUE PRÉSENTANT UN DISPOSITIF D'AJUSTEMENT RÉGULÉ
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N° de publication : WO/2018/086981 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/078070
Date de publication : 17.05.2018 Date de dépôt international : 02.11.2017
CIB :
C23C 14/04 (2006.01) ,C23C 14/54 (2006.01) ,C23C 14/56 (2006.01) ,C23C 16/04 (2006.01) ,C23C 16/52 (2006.01) ,C23C 16/54 (2006.01) ,H01L 51/00 (2006.01) ,B05C 21/00 (2006.01)
[IPC code unknown for C23C 14/04][IPC code unknown for C23C 14/54][IPC code unknown for C23C 14/56][IPC code unknown for C23C 16/04][IPC code unknown for C23C 16/52][IPC code unknown for C23C 16/54][IPC code unknown for H01L 51][IPC code unknown for B05C 21]
Déposants :
AIXTRON SE [DE/DE]; Dornkaulstraße 2 52134 Herzogenrath, DE
Inventeurs :
GERSDORFF, Markus; DE
JAKOB, Markus; DE
Mandataire :
GRUNDMANN, Dirk; DE
MÜLLER, Enno; DE
BRÖTZ, Helmut; DE
RIEDER, Hans-Joachim; DE
BOURREE, Hendrik; DE
Données relatives à la priorité :
10 2016 121 374.808.11.2016DE
Titre (EN) MASK HOLDER WITH A CONTROLLED ADJUSTMENT DEVICE
(FR) SUPPORT DE MASQUE PRÉSENTANT UN DISPOSITIF D'AJUSTEMENT RÉGULÉ
(DE) MASKENHALTERUNG MIT GEREGELTER JUSTIEREINRICHTUNG
Abrégé :
(EN) The invention relates to a holder for a mask (1) that rests on the surface to be coated of a substrate (2) during a coating process in order to restrict the deposition of a layer on predetermined areas of the surface by way of the shape and position of the mask (1), portions (4, 4’, 4’’, 4’’’, 16) of a frame (3) of the holder engaging on the edges (1’) of the mask (1) with a variable tensile force that deforms the mask (1). The following innovations are provided: a sensor (5) for ascertaining an actual position of the mask (1) in relation to the substrate (2), actuators (6, 7, 8) for modifying the position of at least one first portion (4) of the frame (3) in relation to at least one second portion (4’) of the frame (3) and a control loop having a controller (9) for modifying the actual position of the mask (1) in the direction of an intended position of the mask (1) by changing the tensile force (Z, Z’, Z’’, Z’’’). The invention moreover relates to a method for adjusting the position of the mask, in which a control loop is used.
(FR) L'invention concerne un support pour un masque (1), qui se trouve sur la surface à revêtir d'un substrat (2) lors d'un procédé de revêtement, pour limiter le dépôt d'une couche aux sections de la surface prédéfinies par la forme et la position du masque (1), des parties (4, 4", 4''', 16) d'un cadre (3) sollicitant le support par une traction variable, déformant le masque (1), aux bords (1') du masque (1). Les nouveautés suivantes sont utilisées : un capteur (5) pour déterminer une valeur réelle du masque (1) par rapport au substrat (2), des organes de réglage (6, 7, 8) pour modifier la position d'au moins une première partie (4) du cadre (3) par rapport à au moins une deuxième partie (4') du cadre (3) et un circuit de régulation présentant un dispositif de commande (9), pour modifier la position réelle du masque (1) vers une position de consigne du masque (1) par modification de la traction (Z, Z', Z", Z'''). L'invention concerne en outre un procédé pour ajuster la position du masque, lors duquel un circuit de régulation est utilisé.
(DE) Die Erfindung betrifft eine Halterung für eine Maske (1), die bei einem Beschichtungsverfahren auf der zu beschichtenden Oberfläche eines Substrates (2) aufliegt, um das Abscheiden einer Schicht auf durch die Form und die Lage der Maske (1) vorbestimmte Flächenabschnitte der Oberfläche zu beschränken, wobei Abschnitte (4, 4', 4'', 4''', 16) eines Rahmens (3) der Halterung mit einem die Maske (1) verformenden variierbaren Zug an Rändern (1') der Maske (1) angreifen. Es sind folgende Neuerungen vorgesehen: ein Sensor (5) zur Ermittlung einer Ist-Lage der Maske (1) in Bezug auf das Substrat (2), Stellglieder (6, 7, 8) zur Veränderung der Position zumindest eines ersten Abschnittes (4) des Rahmens (3) gegenüber zumindest einem zweiten Abschnitt (4') des Rahmens (3) und ein eine Steuerung (9) aufweisender Regelkreis, um durch eine Veränderung des Zuges (Z, Z', Z'', Z''') die Ist-Lage der Maske (1) in Richtung einer Soll-Lage der Maske (1) zu verändern. Die Erfindung betrifft darüber hinaus ein Verfahren zum Justieren der Lage der Maske, bei dem ein Regelkreis verwendet wird.
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)