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1. (WO2018086795) PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION D'UN ENSEMBLE OPTIMISÉ D'EMPLACEMENTS DE MESURE SERVANT À LA MESURE D'UN PARAMÈTRE D'UN PROCESSUS LITHOGRAPHIQUE, SYSTÈME DE MÉTROLOGIE ET PRODUITS DE PROGRAMMES D'ORDINATEUR SERVANT À L'IMPLÉMENTATION DE TELS PROCÉDÉS

Pub. No.:    WO/2018/086795    International Application No.:    PCT/EP2017/074439
Publication Date: Fri May 18 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Sep 28 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/20
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: TEN BERGE, Peter
DE RUITER, Christiaan, Theodoor
Title: PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION D'UN ENSEMBLE OPTIMISÉ D'EMPLACEMENTS DE MESURE SERVANT À LA MESURE D'UN PARAMÈTRE D'UN PROCESSUS LITHOGRAPHIQUE, SYSTÈME DE MÉTROLOGIE ET PRODUITS DE PROGRAMMES D'ORDINATEUR SERVANT À L'IMPLÉMENTATION DE TELS PROCÉDÉS
Abstract:
L'invention concerne un procédé, et un système associé pour déterminer un ensemble optimisé d'emplacements de mesure pour la mesure d'un paramètre lié à une structure appliquée à un substrat par un procédé lithographique. Le procédé consiste à déterminer un premier ensemble de valeurs de paramètres à partir d'un premier ensemble de mesures de premières structures sur une première pluralité d'emplacements, par exemple à partir de mesures cibles, et à déterminer un second ensemble de valeurs de paramètres à partir d'un second ensemble de mesures de secondes structures sur une seconde pluralité d'emplacements, par exemple à l'aide d'un outil à faisceau électronique ou à balayage électronique (SEM) sur des structures de produit. Une corrélation est déterminée entre ledit premier ensemble de valeurs de paramètre et ledit second ensemble de valeurs de paramètre et utilisée afin de déterminer l'ensemble optimisé d'emplacements de mesure.