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1. (WO2018086300) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE FACE INCLINÉE AU NIVEAU DE LA SURFACE D'UN SUBSTRAT
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N° de publication : WO/2018/086300 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/078831
Date de publication : 17.05.2018 Date de dépôt international : 30.03.2017
CIB :
B81C 1/00 (2006.01)
Déposants : SHANGHAI INDUSTRIAL ΜTECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE[CN/CN]; Building 3 No. 235 Chengbei Rd, Jiading District Shanghai 201800, CN
Inventeurs : DING, Liusheng; CN
Mandataire : BEIJING ORIGINTELLIGENCE IP LAW FIRM; LIU, Yuanxia Room 705, Tower E, Jiahua Building No. 9, Shangdi 3rd Street, Haidian District Beijing 100085, CN
Données relatives à la priorité :
201611029732.914.11.2016CN
Titre (EN) METHOD FOR FORMING SLANTING FACE AT SURFACE OF SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UNE FACE INCLINÉE AU NIVEAU DE LA SURFACE D'UN SUBSTRAT
(ZH) 在基体的表面形成斜面的方法
Abrégé : front page image
(EN) A method for forming a slanting face at a surface of a substrate comprises: employing a size change of a material in an oxidization process to cause a flat face to slant with respect to a surface of a substrate (200), thereby forming a slanting face (208). An angle of the slanting face (208) is controllable. The slanting face (208) has favorable flatness.
(FR) Procédé de formation d'une face inclinée au niveau d'une surface d'un substrat comprenant : l'emploi d'un changement de taille d'un matériau dans un processus d'oxydation pour amener une face plate à s'incliner par rapport à une surface d'un substrat (200), formant de ce fait une face inclinée (208). Un angle de la face inclinée (208) peut être commandé. La face inclinée (208) présente une planéité favorable.
(ZH) 一种在基体的表面形成斜面的方法,利用材料在氧化过程中尺寸的变化,使平面相对于基体(200)的表面发生倾斜,从而形成斜面(208),斜面(208)角度可控,斜面(208)平整度较高。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)