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1. (WO2018085108) SOURCE D'IONS RF À COMMANDE DE VOLUME DYNAMIQUE

Pub. No.:    WO/2018/085108    International Application No.:    PCT/US2017/058517
Publication Date: Sat May 12 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Oct 27 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01J 37/08
H01J 37/32
Applicants: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.
Inventors: KOO, Bon-Woong
HWANG, Yong-Seok
CHUNG, Kyong-Jae
Title: SOURCE D'IONS RF À COMMANDE DE VOLUME DYNAMIQUE
Abstract:
L'invention concerne des approches destinées à modifier de façon dynamique le volume de plasma dans une chambre source d'ions, par positionnement d'une antenne de plaque d'extrémité et de radiofréquence (RF) au niveau d'un emplacement axial sélectionné. Dans une approche, une source d'ions comprend une chambre à plasma possédant un axe longitudinal s'étendant entre une première paroi d'extrémité et une seconde paroi d'extrémité, et une antenne RF adjacente à un plasma à l'intérieur de la chambre à plasma, l'antenne RF étant conçue pour fournir de l'énergie RF au plasma. La source d'ions peut en outre comprendre une plaque d'extrémité disposée à l'intérieur de la chambre à plasma, adjacente à la première paroi d'extrémité, cette plaque d'extrémité étant actionnée le long de l'axe longitudinal entre une première position et une seconde position à des fins de réglage d'un volume du plasma. En fournissant une plaque d'extrémité actionnable et une antenne RF, des caractéristiques de plasma peuvent être commandées de façon dynamique pour influer sur des caractéristiques de source d'ions, telles qu'une composition d'espèce d'ions, y compris des neutres métastables.