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1. (WO2018084929) IRIDIUM POREUX À FAIBLE DENSITÉ
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N° de publication : WO/2018/084929 N° de la demande internationale : PCT/US2017/050425
Date de publication : 11.05.2018 Date de dépôt international : 07.09.2017
CIB :
G21G 4/06 (2006.01)
G PHYSIQUE
21
PHYSIQUE NUCLÉAIRE; TECHNIQUE NUCLÉAIRE
G
CONVERSION D'ÉLÉMENTS CHIMIQUES; SOURCES RADIOACTIVES
4
Sources radioactives
04
Sources radioactives autres que les sources de neutrons
06
caractérisées par des aspects de leur structure
Déposants :
SHILTON, Mark, G. [GB/US]; US (US)
VOSE, Mark, W. [US/US]; US (US)
QSA GLOBAL INC. [US/US]; 30 North Avenue Burlington, MA 01803, US (AllExceptUS)
Inventeurs :
SHILTON, Mark, G.; US
VOSE, Mark, W.; US
Mandataire :
BROWN, Ronald; US
Données relatives à la priorité :
62/378,88124.08.2016US
PCT/US17/3350819.05.2017US
Titre (EN) LOW DENSITY POROUS IRIDIUM
(FR) IRIDIUM POREUX À FAIBLE DENSITÉ
Abrégé :
(EN) The disclosure pertains to a radiation source, such as an active insert, typically containing porous or microporous iridium or compounds, alloys or composites thereof within an encapsulation, and methods of manufacture thereof. The porosity or microporosity or low-density alloying ingredient with iridium causes a reduced density of the iridium within the active insert to be achieved.
(FR) L'invention concerne une source de rayonnement, telle qu'un élément rapporté actif, contenant typiquement de l'iridium poreux ou microporeux ou des composés, des alliages ou des composites de celui-ci à l'intérieur d'une encapsulation, et des procédés de fabrication de ceux-ci, l'ingrédient d'alliage assurant la porosité, la microporosité ou la faible densité avec l'iridium produit une densité réduite de l'iridium à l'intérieur de l'élément rapporté actif.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)