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1. (WO2018083741) DISPOSITIF D'EXPOSITION À UN RAYONNEMENT LASER

Pub. No.:    WO/2018/083741    International Application No.:    PCT/JP2016/082483
Publication Date: Sat May 12 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Nov 02 00:59:59 CET 2016
IPC: H05K 3/10
B23K 26/00
H01S 3/00
H01S 3/10
Applicants: FUJI CORPORATION
株式会社FUJI
Inventors: HASHIMOTO, Yoshitaka
橋本 良崇
FUJITA, Masatoshi
藤田 政利
KAWAJIRI, Akihiro
川尻 明宏
TSUKADA, Kenji
塚田 謙磁
SUZUKI, Masato
鈴木 雅登
MAKIHARA, Katsuaki
牧原 克明
Title: DISPOSITIF D'EXPOSITION À UN RAYONNEMENT LASER
Abstract:
La présente invention concerne un dispositif d'exposition à un rayonnement laser qui expose à un rayonnement une partie à traiter d'un substrat à l'aide d'un laser, et qui est pourvu : d'une tête comprenant une source de lumière laser; d'un étage sur lequel le substrat est placé; d'un dispositif de déplacement vertical qui déplace verticalement l'étage et la tête l'un par rapport à l'autre, permettant ainsi de régler le diamètre d'un point laser exposé sur la partie à traiter du substrat; et d'un dispositif de commande qui, en fonction de chaque élément de la pluralité réglable de diamètres de point laser, détermine la consommation d'énergie et le débit concernant le moment où l'ensemble de la partie à traiter du substrat est exposée au rayonnement du laser, et affiche le débit et la consommation d'énergie en association l'un avec l'autre sur un dispositif d'affichage.