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1. (WO2018083415) PROCEDE DE DÉPÔT DE FILMS MINCES DE CHALCOGENURE

Pub. No.:    WO/2018/083415    International Application No.:    PCT/FR2017/052998
Publication Date: Sat May 12 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Nov 01 00:59:59 CET 2017
IPC: C23C 16/30
C23C 16/448
C23C 16/452
C23C 16/455
Applicants: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES
Inventors: GASSILLOUD, Rémy
Title: PROCEDE DE DÉPÔT DE FILMS MINCES DE CHALCOGENURE
Abstract:
Dispositif de dépôt d'au moins film mince radicalaire de chalcogénure sur un élément à traiter comportant une zone d'admission (4), une zone de diffusion (6) recevant l'élément (P) à traiter, la zone d'admission (4) et la zone de diffusion (6) s'étendant le long d'un axe longitudinal (Z), une source d'hydrogène radicalaire (8) connectée à la zone d'admission (4), des moyens de pompage (19), des moyens d'injection d'un réactant réagissant avec l'hydrogène radicalaire pour former de H2S, des moyens d'alimentation de la zone de diffusion en un précurseur. Les moyens d'injection injectent ie réactant dans une zone centrale de la zone d'admission (4) dans la direction longitudinale au sein du flux d'hydrogène radicalaire. Les moyens de pompage (19) sont commandés pour fonctionner pendant l'injection de réactant et g génèrent un écoulement du H2S le long de l'élément à traiter (P) afin d'activer ledit élément pour l'absorption du précurseur.