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1. (WO2018082892) CAPTEUR DE HAUTEUR, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
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N° de publication : WO/2018/082892 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/076104
Date de publication : 11.05.2018 Date de dépôt international : 12.10.2017
CIB :
G03F 9/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
9
Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
BUTLER, Hans; NL
VERMEULEN, Johannes, Petrus, Martinus, Bernardus; NL
REIJNDERS, Marinus, Petrus; NL
Mandataire :
KETTING, Alfred; NL
Données relatives à la priorité :
16196902.702.11.2016EP
Titre (EN) HEIGHT SENSOR, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICES
(FR) CAPTEUR DE HAUTEUR, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
Abrégé :
(EN) A lithographic apparatus (LA) applies a pattern to a substrate (W). The lithographic apparatus includes a height sensor (LS), a substrate positioning subsystem, and a controller configured for causing the height sensor to measure the height (h) of the substrate surface at locations across the substrate. The measured heights are used to control the focusing of one or more patterns applied to the substrate. The height h is measured relative to a reference height (zref). The height sensor is operable to vary the reference height (zref), which allows a wider effective range of operation. Specifications for control of the substrate height during measurement can be relaxed. The reference height can be varied by moving one or more optical elements (566, 572, 576, 504 and/or 512) within the height sensor, or moving the height sensor. An embodiment without moving parts includes a multi-element photodetector (1212).
(FR) La présente invention concerne un appareil lithographique (LA) qui applique un motif sur un substrat (W). L'appareil lithographique comprend un capteur de hauteur (LS), un sous-système de positionnement de substrat, et un dispositif de commande configuré pour amener le capteur de hauteur à mesurer la hauteur (h) de la surface de substrat à des emplacements sur le substrat. Les hauteurs mesurées sont utilisées afin de commander la mise au point d'un ou plusieurs motifs appliqués au substrat. La hauteur h est mesurée par rapport à une hauteur de référence (zref). Le capteur de hauteur peut fonctionner afin de faire varier la hauteur de référence (zref), ce qui permet une plage de fonctionnement plus étendue. Des spécifications pour la commande de la hauteur du substrat pendant la mesure peuvent être assouplies. La hauteur de référence peut être modifiée en déplaçant un ou plusieurs éléments optiques (566, 572, 576, 504 et/ou 512) à l'intérieur du capteur de hauteur, ou en déplaçant le capteur de hauteur. Un mode de réalisation sans parties mobiles comprend un photodétecteur à éléments multiples (1212).
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)