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1. (WO2018082050) SUBSTRAT TACTILE, PANNEAU TACTILE, APPAREIL D'AFFICHAGE TACTILE, PLAQUE DE MASQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
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N° de publication : WO/2018/082050 N° de la demande internationale : PCT/CN2016/104722
Date de publication : 11.05.2018 Date de dépôt international : 04.11.2016
CIB :
G06F 3/041 (2006.01)
[IPC code unknown for G06F 3/041]
Déposants :
BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District, Beijing 100015, CN
HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; Xinzhan Industrial Park Hefei, Anhui 230012, CN
Inventeurs :
XIE, Xiaodong; CN
SHAO, Xibin; CN
HU, Ming; CN
ZHANG, Ming; CN
WANG, Jing; CN
Mandataire :
TEE&HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; CHEN, Yuan 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center 28 Jianguomennei Avenue, Dongcheng District Beijing 100005, CN
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) TOUCH SUBSTRATE, TOUCH PANEL, TOUCH DISPLAY APPARATUS, MASK PLATE, AND FABRICATING METHOD
(FR) SUBSTRAT TACTILE, PANNEAU TACTILE, APPAREIL D'AFFICHAGE TACTILE, PLAQUE DE MASQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé :
(EN) A touch substrate includes a base substrate, and a touch electrode layer on the base substrate having a first region having a plurality of first mesh electrode patterns, a second region having a plurality of second mesh electrode patterns corresponding to the plurality of first mesh electrode patterns, and an interface region between the first region and the second region. Each of the plurality of first mesh electrode patterns includes a plurality of first mesh electrode lines having a first line width. A corresponding second mesh electrode pattern includes a plurality of second mesh electrode lines corresponding to the plurality of first mesh electrode lines and having the first line width. The first mesh electrode line in the interface region has a second line width no less than the first line width.
(FR) L'invention concerne un substrat tactile qui comprend un substrat de base, et une couche d'électrode tactile sur le substrat de base ayant une première région ayant une pluralité de premiers motifs d'électrode de maillage, une seconde région ayant une pluralité de seconds motifs d'électrode de maillage correspondant à la pluralité de premiers motifs d'électrode de maillage, et une région d'interface entre la première région et la seconde région. Chaque motif de la pluralité de premiers motifs d'électrode de maillage comprend une pluralité de premières lignes d'électrode de maillage présentant une première largeur de ligne. Un second motif d'électrode de maillage correspondant comprend une pluralité de secondes lignes d'électrode de maillage correspondant à la pluralité de premières lignes d'électrode de maillage et présentant la première largeur de ligne. La première ligne d'électrode de maillage dans la région d'interface présente une seconde largeur de ligne inférieure ou égale à la première largeur de ligne.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)