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1. (WO2018081452) MÉTROLOGIE OPTIQUE À HAUT RENDEMENT ET HAUTE RÉSOLUTION POUR DISPOSITIFS NANOPHOTONIQUES RÉFLÉCHISSANTS ET TRANSMISSIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/081452 N° de la demande internationale : PCT/US2017/058573
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 26.10.2017
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 12.03.2018
CIB :
B82Y 20/00 (2011.01) ,G01B 11/00 (2006.01) ,G01N 21/00 (2006.01)
Déposants : BOARD OF REGENTS, THE UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM[US/US]; 201 West 7th Street Austin, Texas 78701, US
Inventeurs : SREENIVASAN, S.V.; US
GAWLIK, Brian; US
SINGHAL, Shrawan; US
Mandataire : BAILEY, Robert, A.; US
HALL, Miles E.; US
Données relatives à la priorité :
62/413,29126.10.2016US
Titre (EN) HIGH THROUGHPUT, HIGH RESOLUTION OPTICAL METROLOGY FOR REFLECTIVE AND TRANSMISSIVE NANOPHOTONIC DEVICES
(FR) MÉTROLOGIE OPTIQUE À HAUT RENDEMENT ET HAUTE RÉSOLUTION POUR DISPOSITIFS NANOPHOTONIQUES RÉFLÉCHISSANTS ET TRANSMISSIFS
Abrégé : front page image
(EN) The present disclosure relates to optical metrology for nanophotonic devices. A metrology system according to this disclosure includes a sample camera and a reference camera each connected to at least one computer configured with a computer processor and computerized memory. A tunable light source is directed to a nanophotonic device subject to imaging by the sample camera, and a reference light source subject to imaging by the reference camera to record reference lighting parameters in the memory. The computerized memory stores computer readable software commands that gather respective sets of image data from the sample camera and the reference camera to identify at least one nanophotonic property of the nanophotonic device by comparing the respective sets of image data. Examples show metrology for wire grid polarizers and other devices fabricated in wafer scale or roll to roll assemblies
(FR) La présente invention concerne la métrologie optique pour dispositifs nanophotoniques. Un système de métrologie selon la présente invention comprend une caméra d'échantillon et une caméra de référence, chacune étant connectée à au moins un ordinateur configuré avec un processeur d'ordinateur et une mémoire informatisée. Une source de lumière accordable est dirigée vers un dispositif nanophotonique soumis à une imagerie par la caméra d'échantillon, et une source de lumière de référence soumise à une imagerie par la caméra de référence pour enregistrer des paramètres d'éclairage de référence dans la mémoire. La mémoire informatisée stocke des instructions logicielles lisibles par ordinateur qui recueillent des ensembles respectifs de données d'image provenant de la caméra d'échantillon et de la caméra de référence pour identifier au moins une propriété nanophotonique du dispositif nanophotonique en comparant les ensembles respectifs de données d'image. Des exemples décrivent une métrologie pour des polariseurs à grille métallique et d'autres dispositifs fabriqués à l'échelle de la plaquette ou des ensembles de rouleaux à rouleaux.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)