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1. (WO2018080647) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DIFFÉRENTIEL IN SITU

Pub. No.:    WO/2018/080647    International Application No.:    PCT/US2017/050946
Publication Date: Fri May 04 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Sep 12 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01J 37/32
B08B 7/00
C23C 16/44
Applicants: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.
Inventors: GILCHRIST, Glen FR
BILOIU, Costel
LIANG, Shurong
CAMPBELL, Christopher R.
SINGH, Vikram
Title: APPAREIL ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DIFFÉRENTIEL IN SITU
Abstract:
L'invention concerne un appareil de traitement de pièce qui permet le nettoyage in situ d'un métal déposé, formé sur la plaque d'extraction ainsi que dans la chambre à plasma. L'appareil comprend une plaque d'extraction pourvue d'une ouverture d'extraction par laquelle la matière de pulvérisation est insérée. L'appareil comprend également un volume étanche disposé à l'intérieur de la chambre à plasma, qui est en communication avec une ouverture de nettoyage sur la plaque d'extraction. Le volume étanche est en communication avec un gaz de nettoyage qui est excité par le plasma dans la chambre à plasma et qui peut être utilisé pour nettoyer la surface extérieure de la plaque d'extraction. Le gaz d'alimentation utilisé dans la chambre à plasma peut être choisi entre une espèce de pulvérisation et le gaz de nettoyage. Étant donné que le volume contenu dans le volume étanche est séparé du reste de la chambre à plasma, le nettoyage de la plaque d'extraction et de la chambre à plasma peuvent être exécutés indépendamment.