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1. (WO2018079553) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ACIDE 3-MÉTHYL-2-THIOPHÈNECARBOXYLIQUE
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N° de publication : WO/2018/079553 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/038371
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 24.10.2017
CIB :
C07D 333/40 (2006.01)
[IPC code unknown for C07D 333/40]
Déposants :
石原産業株式会社 ISHIHARA SANGYO KAISHA, LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市西区江戸堀一丁目3番15号 3-15, Edobori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5500002, JP
Inventeurs :
吉田 辰徳 YOSHIDA Tatsunori; JP
Mandataire :
泉名 謙治 SENMYO Kenji; JP
小川 利春 OGAWA Toshiharu; JP
Données relatives à la priorité :
2016-20948426.10.2016JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING 3-METHYL-2-THIOPHENECARBOXYLIC ACID
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ACIDE 3-MÉTHYL-2-THIOPHÈNECARBOXYLIQUE
(JA) 3-メチル-2-チオフェンカルボン酸の製造方法
Abrégé :
(EN) Provided is a method for producing 3-methyl-2-thiophenecarboxylic acid. The method for producing 3-methyl-2-thiophenecarboxylic acid is characterized in that 3-methylthiophene is reacted with chlorosulfonyl isocyanate and the obtained reaction product is hydrolyzed.
(FR) L'invention concerne un procédé de production d'acide 3-méthyl-2-thiophènecarboxylique. Le procédé de production d'acide 3-méthyl-2-thiophènecarboxylique est caractérisé en ce que le 3-méthylthiophène est mis à réagir avec de l'isocyanate de chlorosulfonyle et le produit de réaction obtenu est hydrolysé.
(JA) 3-メチル-2-チオフェンカルボン酸の製造方法を提供する。 3-メチルチオフェンをイソシアン酸クロロスルホニルと反応させ、得られた反応生成物を加水分解することを特徴とする、3-メチル-2-チオフェンカルボン酸の製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)