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1. (WO2018079525) FILM FONCTIONNEL

Pub. No.:    WO/2018/079525    International Application No.:    PCT/JP2017/038287
Publication Date: Fri May 04 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Oct 25 01:59:59 CEST 2017
IPC: G02B 1/118
B32B 3/30
B32B 27/30
C08G 65/22
C08G 65/32
G02B 1/18
Applicants: DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
ダイキン工業株式会社
Inventors: YAMASHITA, Tsuneo
山下 恒雄
SAKAMOTO, Eiji
阪本 英司
NII, Saya
新居 沙弥
SAKAKURA, Atsushi
坂倉 淳史
Title: FILM FONCTIONNEL
Abstract:
L'invention concerne un film fonctionnel qui a une structure de motif de microrelief souhaitée, tout en ayant d'excellentes propriétés antisalissures, un caractère hydrofuge et un caractère oléofuge, et les caractéristiques d'une résine servant de matériau de base qui confère au film fonctionnel une fonction sont suffisamment présentées. Ce film fonctionnel comprend une couche (A) qui contient une résine et une couche (B) qui contient un composé ayant un groupe perfluoropolyéther, et est caractérisée en ce que : une surface de la couche (B) a une structure de motif à microrelief, ladite surface étant sur le côté inverse de la surface côté couche (A); l'expression relationnelle (1) est satisfaite dans les cas où une analyse élémentaire est réalisée par spectroscopie photoélectronique à rayons X, tout en gravant le film fonctionnel à partir de la couche (B) côte au moyen d'un faisceau d'ions de grappe de gaz argon; et une expression relationnelle (2) est satisfaite dans les cas où le spectre de 1s du carbone est mesuré par spectroscopie photoélectronique à rayons X, tout en gravant le film fonctionnel à partir du côté de la couche (B) au moyen d'un faisceau d'ions en grappe de gaz argon. Expression relationnelle (1) : D1 < 2 × X1 (dans la formule, X1 représente l'épaisseur du film (nm) de la couche (B); et D1 représente la profondeur (nm) au niveau de laquelle la concentration en atomes de fluor tombe 1 % atomique ou moins.) Expression relationnelle (2) : D2 < 2 × X1 (dans la formule, X1 représente l'épaisseur du film (nm) de la couche (B); et D2 représente la profondeur (nm) au niveau de laquelle un pic n'est pas détecté à l'intérieur une plage D'énergie de liaison allant de 290 eV à 300 eV.)