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1. (WO2018079429) FILM STRATIFIÉ, ÉLÉMENT DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
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N° de publication :    WO/2018/079429    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/037972
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 20.10.2017
CIB :
B32B 7/02 (2006.01), C23C 14/06 (2006.01), C23C 16/42 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/04 (2006.01), H05B 33/28 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), B32B 27/00 (2006.01)
Déposants : LINTEC CORPORATION [JP/JP]; 23-23, Honcho, Itabashi-ku, Tokyo 1730001 (JP)
Inventeurs : NAGANAWA Satoshi; (JP).
OHASHI Takehiro; (JP).
IWAYA Wataru; (JP)
Mandataire : OHISHI Haruhito; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-211517 28.10.2016 JP
Titre (EN) LAMINATE FILM, ELECTRONIC DEVICE MEMBER, AND ELECTRONIC DEVICE
(FR) FILM STRATIFIÉ, ÉLÉMENT DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 積層フィルム、電子デバイス用部材、及び電子デバイス
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a laminate film comprising at least a base material and a gas barrier layer, characterized in that an elongation (ε) occurring in a surface of the gas barrier layer calculated by a formula (1) is 0.8% or less. An electronic device member comprises the laminate film, and an electronic device is provided with the electronic device member. In formula (1), T represents a distance [m] from a surface farthest from the gas barrier layer in a thickness direction of the laminate film to the gas barrier layer, and λ represents a distance, from the surface of the laminate film, of an imaginary plane (α) of the laminate film in which stress does not occur. The present invention provides a laminate film with excellent gas barrier properties and bending properties, an electronic device member comprising the laminate film, and an electronic device provided with the electronic device member.
(FR)La présente invention concerne un film stratifié comprenant au moins un matériau de base et une couche barrière aux gaz, caractérisé en ce qu'un allongement (ε) se produisant dans une surface de la couche barrière aux gaz calculé par une formule (1) est inférieur ou égal à 0,8 %. Un élément de dispositif électronique comprend le film stratifié, et un dispositif électronique est pourvu de l'élément de dispositif électronique. Dans la formule (1), T représente une distance [m] d'une surface la plus éloignée de la couche barrière aux gaz dans une direction d'épaisseur du film stratifié à la couche barrière aux gaz, et λ représente une distance, de la surface du film stratifié, d'un plan imaginaire (α) du film stratifié dans lequel la contrainte ne se produit pas. La présente invention concerne un film stratifié possédant d'excellentes propriétés de barrière aux gaz et propriétés de flexion, un élément de dispositif électronique comprenant le film stratifié, et un dispositif électronique pourvu de l'élément de dispositif électronique. (Formule 1) ε= (T - λ)/[(3 × 10-3) + λ] × 100
(JA)本発明は、少なくとも基材と、ガスバリア層を有する積層フィルムであって、下記式(1)で算出される、前記ガスバリア層表面に発生する伸歪(ε)が、0.8%以下であることを特徴とする積層フィルムと、この積層フィルムからなる電子デバイス用部材、及び、この電子デバイス用部材を備える電子デバイスである。式(1)中、Tは、積層フィルムの厚み方向において、ガスバリア層から最も離れた表面からガスバリア層までの距離[m]であり、λは、積層フィルム中の応力が発生しない仮想の面(α)の、積層フィルムの前記表面からの距離である。本発明によれば、ガスバリア性及び屈曲性に優れる積層フィルムと、この積層フィルムからなる電子デバイス用部材、及び、この電子デバイス用部材を備える電子デバイスが提供される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)