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1. (WO2018079203) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE RÉSINE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COMPOSITION SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTINIQUE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT
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N° de publication : WO/2018/079203 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/035839
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 02.10.2017
CIB :
C08F 8/12 (2006.01) ,C08F 212/14 (2006.01) ,C08F 220/16 (2006.01) ,C08F 224/00 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
8
Modification chimique par post-traitement
12
Hydrolyse
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
212
Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un noyau carbocyclique aromatique
02
Monomères contenant un seul radical aliphatique non saturé
04
contenant un cycle
14
substitué par des hétéro-atomes ou des groupes contenant des hétéro-atomes
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
220
Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10
Esters
12
des alcools ou des phénols monohydriques
16
des phénols ou des alcools contenant plusieurs atomes de carbone
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
224
Copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et l'un au moins étant terminé par un hétérocycle contenant de l'oxygène
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
038
Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
039
Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants : FUJIFILM CORPORATION[JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs : KANEKO Akihiro; JP
HIRANO Shuji; JP
NIHASHI Wataru; JP
Mandataire : NAKASHIMA Junko; JP
YONEKURA Junzo; JP
MURAKAMI Yasunori; JP
Données relatives à la priorité :
2016-21295331.10.2016JP
2017-04299607.03.2017JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING RESIN, AND METHOD FOR PRODUCING ACTIVE RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE RÉSINE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COMPOSITION SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTINIQUE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT
(JA) 樹脂の製造方法、及び、感活性光線性又は感放射線性組成物の製造方法
Abrégé :
(EN) Provided are: a method for producing a resin, whereby it becomes possible to produce a resin that enables the formation of a resist film having excellent resolution and also enables the reduction in scums during the formation of a pattern; and a method for producing an active ray-sensitive or radiation-sensitive composition. The method for producing a resin comprises: a first step of producing a resin containing a repeating unit represented by general formula (1) and a repeating unit containing a group capable of generating a polar group upon being decomposed by the action of an acid, thereby producing a resin precursor containing a repeating unit represented by general formula (2) and a repeating unit containing a group capable of generating a polar group upon being decomposed by the action of an acid; and a second step of deprotecting a group represented by -OY in the repeating unit represented by general formula (2) in the resin precursor with an acid or a base to produce a repeating unit represented by general formula (1).
(FR) L’invention fournit un procédé de fabrication de résine qui permet de fabriquer une résine permettant de former un film de réserve d’une excellente résolution, et permettant de réduire un voile lors de la formation d’un motif. L’invention fournit également un procédé de fabrication de composition sensible à la lumière actinique ou sensible au rayonnement. Le procédé de fabrication de résine de l’invention comprend : une première étape au cours de laquelle est fabriquée une résine comprenant une unité de répétition représentée par la formule générale (1), et une unité de répétition comprenant un groupe de production de groupe polaire par dégradation sous l’effet d’un acide, et est obtenu un précurseur de résine comprenant une unité de répétition représentée par la formule générale (2), et une unité de répétition comprenant un groupe de production de groupe polaire par dégradation sous l’effet d’un acide ; et une seconde étape au cours de laquelle un groupe représenté par -OY dans l’unité de répétition représentée par la formule générale (2) dans le précurseur de résine, est déprotégé par un acide ou une base, et l’unité de répétition représentée par la formule générale (1) est ainsi obtenue.
(JA) 優れた解像性を有するレジスト膜を形成することができ、かつ、パターンを形成する際のスカムを低減することができる樹脂を製造することができる樹脂の製造方法、及び、感活性光線性又は感放射線性組成物の製造方法を提供する。樹脂の製造方法は、一般式(1)で表される繰り返し単位と、酸の作用により分解して極性基を生じる基を含有する繰り返し単位と、を含有する樹脂を製造し、一般式(2)で表される繰り返し単位と、酸の作用により分解して極性基を生じる基を含有する繰り返し単位と、を含有する樹脂前駆体を得る第一工程と、樹脂前駆体中の一般式(2)で表される繰り返し単位における-OYで表される基を、酸又は塩基で脱保護して、一般式(1)で表される繰り返し単位を得る第二工程と、を含有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)