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1. (WO2018079192) COUCHE DE NITRURE DU GROUPE 13, SUBSTRAT COMPOSITE ET ÉLÉMENT FONCTIONNEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/079192    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/035537
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 29.09.2017
CIB :
C30B 29/38 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Déposants : NGK INSULATORS, LTD. [JP/JP]; 2-56, Suda-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi 4678530 (JP)
Inventeurs : ISODA Yoshinori; (JP).
NOGUCHI Suguru; (JP).
UCHIKAWA Tetsuya; (JP).
HIRAO Takayuki; (JP).
SHIMODAIRA Takanao; (JP).
IMAI Katsuhiro; (JP)
Mandataire : HOSODA Masutoshi; (JP).
AOKI Sumio; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-211564 28.10.2016 JP
Titre (EN) GROUP 13 NITRIDE LAYER, COMPOSITE SUBSTRATE, AND FUNCTIONAL ELEMENT
(FR) COUCHE DE NITRURE DU GROUPE 13, SUBSTRAT COMPOSITE ET ÉLÉMENT FONCTIONNEL
(JA) 13族元素窒化物層、複合基板および機能素子
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a group 13 nitride layer having a first major surface and a second major surface. The group 13 nitride layer includes: a first void depleted layer provided on the first major surface side; a second void depleted layer provided on the second major surface side; and a void distributed layer provided between the first void depleted layer and the second void depleted layer.
(FR)L'invention concerne une couche de nitrure du groupe 13 présentant une première surface principale et une seconde surface principale. La couche de nitrure du groupe 13 comprend : une première couche à réduction de vides disposée sur le premier côté de la surface principale; une seconde couche à réduction de vides disposée sur le second côté de la surface principale; et une couche à répartition de vides disposée entre la première couche à réduction de vides et la seconde couche à réduction de vides.
(JA)第一の主面および第二の主面を有する13族元素窒化物層を提供する。13族元素窒化物層は、第一の主面側に設けられた第一のボイド欠乏層、第二の主面側に設けられた第二のボイド欠乏層、および第一の欠乏層と第二の欠乏層との間に設けられたボイド分布層を備えている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)