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1. (WO2018079178) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COMPOSITION COMPRENANT DES ACIDES CHLOROGÉNIQUES PURIFIÉS
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N° de publication :    WO/2018/079178    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/035267
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 28.09.2017
CIB :
A23F 5/00 (2006.01), A61K 31/216 (2006.01), A61K 36/74 (2006.01), A61P 1/16 (2006.01), A61P 9/12 (2006.01), A61P 39/06 (2006.01), A23L 33/105 (2016.01)
Déposants : KAO CORPORATION [JP/JP]; 14-10, Nihonbashi Kayabacho 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038210 (JP)
Inventeurs : HOTTA, Yusuke; (JP).
SUGIYAMA, Yukiteru; (JP)
Mandataire : THE PATENT CORPORATE BODY ARUGA PATENT OFFICE; Sawanotsuru Ningyocho Bldg., 1-3-8, Nihonbashi Ningyocho, Chuo-ku, Tokyo 1030013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-209198 26.10.2016 JP
Titre (EN) REFINED CHLOROGENIC ACID-CONTAINING COMPOSITION MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COMPOSITION COMPRENANT DES ACIDES CHLOROGÉNIQUES PURIFIÉS
(JA) 精製クロロゲン酸類含有組成物の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A refined chlorogenic acid-containing composition manufacturing method including a contact step in which a chlorogenic acid-containing composition with a solid content concentration of 1.5-4.7 mass% and a mass ratio of caffeine/chlorogenic acids of 5 or less is brought into contact with a porous adsorbent.
(FR)L’invention concerne un procédé de fabrication de composition comprenant des acides chlorogéniques purifiés qui inclut une étape de contact au cours de laquelle une composition comprenant des acides chlorogéniques présentant une concentration en matière solide comprise entre 1,5 et 4,7% en masse, et un rapport massique caféine / acides chlorogéniques inférieur ou égal à 5, est mise en contact avec un corps adsorbant poreux.
(JA)固形分濃度が1.5~4.7質量%であり、かつカフェイン/クロロゲン酸類の質量比が5以下であるクロロゲン酸類含有組成物を多孔質吸着体に接触させる接触工程を含む、精製クロロゲン酸類含有組成物の製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)