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1. (WO2018078874) COMPOSITION DE RÉSINE POUR COUCHE INTERMÉDIAIRE DANS DU VERRE FEUILLETÉ, MATÉRIAU DE FILM POUR COUCHE INTERMÉDIAIRE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE VERRE FEUILLETÉ
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N° de publication :    WO/2018/078874    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/082328
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 31.10.2016
CIB :
C03C 27/12 (2006.01)
Déposants : HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606 (JP)
Inventeurs : MUKAIGAITO Kouhei; (JP).
TAKAHASHI Hiroaki; (JP).
FURUZONO Kazutoshi; (JP).
ISHIKAWA Eisaku; (JP)
Mandataire : HASEGAWA Yoshiki; (JP).
SHIMIZU Yoshinori; (JP).
HIRANO Hiroyuki; (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) RESIN COMPOSITION FOR INTERLAYER IN LAMINATE GLASS, FILM MATERIAL FOR INTERLAYER, AND LAMINATE GLASS MANUFACTURING METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE POUR COUCHE INTERMÉDIAIRE DANS DU VERRE FEUILLETÉ, MATÉRIAU DE FILM POUR COUCHE INTERMÉDIAIRE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE VERRE FEUILLETÉ
(JA) 合わせガラスの中間膜用樹脂組成物、中間膜用フィルム材及び合わせガラスの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a resin composition for an interlayer in laminate glass, containing a copolymer of a monomer mixture that includes a (meth)acryloyl compound and a silicon compound having an ethylenically unsaturated group.
(FR)L'invention concerne une composition de résine pour une couche intermédiaire dans du verre feuilleté, contenant un copolymère d'un mélange de monomères qui comprend un composé de (méth)acryloyle et un composé de silicium pourvu d'un groupe à insaturation éthylénique.
(JA)本発明は、(メタ)アクリロイル化合物と、エチレン性不飽和基を有するケイ素化合物と、を含有するモノマー混合物の共重合体を含む、合わせガラスの中間膜用の樹脂組成物に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)