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1. (WO2018077787) PROCÉDÉ D'OPTIMISATION D'UN MODÈLE DE DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIFS

Pub. No.:    WO/2018/077787    International Application No.:    PCT/EP2017/076972
Publication Date: Fri May 04 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Oct 24 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 1/70
G06F 17/50
G03F 7/20
G03F 1/00
G03F 1/36
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.
Inventors: HSU, Duan-Fu, Stephen
LI, Xiaoyang
Title: PROCÉDÉ D'OPTIMISATION D'UN MODÈLE DE DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIFS
Abstract:
L'invention concerne un procédé d'optimisation d'un modèle de dispositif de formation de motifs, qui consiste: à obtenir un modèle de conception initial présentant une pluralité de polygones; à amener au moins certains des polygones à se raccorder efficacement les uns aux autres; à placer des éléments d'évaluation hors des limites des polygones; et à créer un modèle de dispositif de formation de motifs qui recouvre les polygones raccordés sur la base des éléments d'évaluation.