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1. (WO2018077651) PROCÉDÉ D'OPTIMISATION D'UN PROCESSUS LITHOGRAPHIQUE
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N° de publication :    WO/2018/077651    N° de la demande internationale :    PCT/EP2017/076338
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 16.10.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : MOS, Everhardus, Cornelis; (NL).
WILDENBERG, Jochem, Sebastiaan; (NL).
WALLERBOS, Erik, Johannes, Maria; (NL).
VAN DER SCHAAR, Maurits; (NL).
STAALS, Frank; (NL).
ELICH, Franciscus, Hendricus, Arnoldus; (NL)
Mandataire : PETERS, John; (NL)
Données relatives à la priorité :
16195819.4 26.10.2016 EP
16206235.0 22.12.2016 EP
17185056.3 07.08.2017 EP
Titre (EN) A METHOD FOR OPTIMIZATION OF A LITHOGRAPHIC PROCESS
(FR) PROCÉDÉ D'OPTIMISATION D'UN PROCESSUS LITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A method for improving the yield of a lithographic process, the method comprising: determining a parameter fingerprint of a performance parameter across a substrate, the parameter fingerprint including information relating to uncertainty in the performance parameter; determining a process window fingerprint of the performance parameter across the substrate, the process window being associated with an allowable range of the performance parameter; and determining a probability metric associated with the probability of the performance parameter being outside an allowable range. Optionally a correction to the lithographic process is determined based on the probability metric.
(FR)L'invention concerne un procédé pour améliorer le rendement d'un processus lithographique, le procédé consistant à : déterminer une empreinte de paramètre d'un paramètre de performance à travers un substrat, l'empreinte de paramètre comprenant des informations relatives à une incertitude du paramètre de performance ; déterminer une empreinte de fenêtre de processus du paramètre de performance à travers le substrat, la fenêtre de processus étant associée à une plage admissible du paramètre de performance ; et déterminer une métrique de probabilité associée à la probabilité que le paramètre de performance se trouve à l'extérieur d'une plage admissible. Facultativement, une correction du processus lithographique est déterminée sur la base de la métrique de probabilité.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)