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1. (WO2018077422) APPAREIL DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT UTILISÉ DANS LA FABRICATION D'UNE CELLULE SOLAIRE, ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT UTILISÉ DANS LA FABRICATION D'UNE CELLULE SOLAIRE
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N° de publication : WO/2018/077422 N° de la demande internationale : PCT/EP2016/076086
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 28.10.2016
CIB :
H01L 31/18 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS ITALIA S.R.L.[IT/IT]; Via Postumia Ovest, 244 Frazione Olmi 31048 San Biagio di Callalta (TV), IT
Inventeurs : VOLTAN, Alessandro; IT
GALIAZZO, Marco; IT
DE SANTI, Luigi; IT
Mandataire : ZIMMERMANN & PARTNER PATENTANWÄLTE MBB; Josephspitalstr. 15 80331 München, DE
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) APPARATUS FOR PROCESSING OF A SUBSTRATE USED IN THE MANUFACTURE OF A SOLAR CELL, AND METHOD FOR PROCESSING OF A SUBSTRATE USED IN THE MANUFACTURE OF A SOLAR CELL
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT UTILISÉ DANS LA FABRICATION D'UNE CELLULE SOLAIRE, ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT UTILISÉ DANS LA FABRICATION D'UNE CELLULE SOLAIRE
Abrégé : front page image
(EN) An apparatus (100) for processing of a substrate (10) used in the manufacture of a solar cell is provided. The apparatus (100) includes an inspection assembly (110) configured to detect a first dimension of a first line pattern (13) on a first substrate, a processing device (120) configured to provide a second line pattern (14) over the first line pattern (13) to form a combined line pattern (12), wherein the inspection assembly (110) is further configured to detect a second dimension of the combined line pattern (12), and an alignment device (130) configured to align at least one of the processing device (120) and a second substrate based on the first dimension and the second dimension.
(FR) L'invention concerne un appareil (100) pour le traitement d'un substrat (10) utilisé dans la fabrication d'une cellule solaire. L'appareil (100) comprend un ensemble d'inspection (110) configuré pour détecter une première dimension d'un premier motif de ligne (13) sur un premier substrat, un dispositif de traitement (120) configuré pour fournir un second motif de ligne (14) sur le premier motif de ligne (13) pour former un motif de ligne combiné (12), l'ensemble d'inspection (110) étant en outre configuré pour détecter une seconde dimension du motif de ligne combiné (12), et un dispositif d'alignement (130) configuré pour aligner au moins le dispositif de traitement (120) et/ou un second substrat sur la base de la première dimension et de la seconde dimension.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)