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1. (WO2018077239) SUBSTRAT D'AFFICHAGE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
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N° de publication : WO/2018/077239 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/108059
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 27.10.2017
CIB :
H01L 21/77 (2017.01) ,H01L 27/12 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
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Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci; Fabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci
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Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27
Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
02
comprenant des composants semi-conducteurs spécialement adaptés pour le redressement, l'amplification, la génération d'oscillations ou la commutation et ayant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface; comprenant des éléments de circuit passif intégrés avec au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface
12
le substrat étant autre qu'un corps semi-conducteur, p.ex. un corps isolant
Déposants :
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
Inventeurs :
孙双 SUN, Shuang; CN
彭宽军 PENG, Kuanjun; CN
Mandataire :
中国专利代理(香港)有限公司 CHINA PATENT AGENT (H.K.) LTD.; 中国香港特别行政区 湾仔港湾道23号鹰君中心22号楼 22/F, Great Eagle Centre 23 Harbour Road, Wanchai Hong Kong, CN
Données relatives à la priorité :
201610930682.531.10.2016CN
Titre (EN) DISPLAY SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT D'AFFICHAGE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 显示基板及其制造方法、显示装置
Abrégé :
(EN) A display substrate and a method for manufacturing same, and a display device. The method for manufacturing a display substrate comprises: providing a base (1); and forming a first thin film transistor comprising a first active layer (3) and a second thin film transistor comprising a second active layer (6) on the base (1). The second active layer (6) comprises a central region (61) and doped regions at two sides of the central region (61) respectively. Forming a first thin film transistor comprising a first active layer (3) and a second thin film transistor comprising a second active layer (6) on the base (1) comprises: forming doped regions of the first active layer (3) and the second active layer (6) by means of a patterning process.
(FR) La présente invention concerne un substrat d'affichage et son procédé de fabrication, et un dispositif d'affichage. Le procédé de fabrication d'un substrat d'affichage consiste à : utiliser une base (1) ; et former un premier transistor à couches minces comprenant une première couche active (3) et un second transistor à couches minces comprenant une seconde couche active (6) sur la base (1). La seconde couche active (6) comprend une région centrale (61) et des régions dopées sur deux côtés de la région centrale (61) respectivement. La formation d'un premier transistor à couches minces comprenant une première couche active (3) et d'un second transistor à couches minces comprenant une seconde couche active (6) sur la base (1) consiste à : former des régions dopées de la première couche active (3) et de la seconde couche active (6) au moyen d'un procédé de formation de motifs.
(ZH) 一种显示基板及其制造方法,以及显示装置。显示基板的制造方法包括:提供衬底(1);以及,在衬底(1)上形成包括第一有源层(3)的第一薄膜晶体管和包括第二有源层(6)的第二薄膜晶体管。第二有源层(6)包括中心区域(61)和分别位于中心区域(61)两侧的掺杂区域。在衬底上形成包括第一有源层(3)的第一薄膜晶体管和包括第二有源层(6)的第二薄膜晶体管包括:通过一次构图工艺形成第一有源层(3)和第二有源层(6)的掺杂区域。
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Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)