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1. (WO2018077180) PROCÉDÉ DE DÉPÔT DE STRUCTURE STRATIFIÉE DE FILM MINCE MAGNÉTIQUE, STRUCTURE STRATIFIÉE DE FILM MINCE MAGNÉTIQUE ET DISPOSITIF DE MICRO-INDUCTEUR
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N° de publication : WO/2018/077180 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/107630
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 25.10.2017
CIB :
H01F 41/18 (2006.01) ,H01F 3/02 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
F
AIMANTS; INDUCTANCES; TRANSFORMATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS MAGNÉTIQUES
41
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication ou à l'assemblage des dispositifs couverts par la présente sous-classe
14
pour appliquer des pellicules magnétiques sur des substrats
18
par pulvérisation cathodique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
F
AIMANTS; INDUCTANCES; TRANSFORMATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS MAGNÉTIQUES
3
Noyaux, culasses ou induits
02
en feuilles
Déposants :
北京北方华创微电子装备有限公司 BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 北京经济技术开发区文昌大道8号 No.8 Wenchang Avenue Beijing Economic-Technological Development Area, Beijing 100176, CN
Inventeurs :
杨玉杰 YANG, Yujie; CN
丁培军 DING, Peijun; CN
张同文 ZHANG, Tongwen; CN
夏威 XIA, Wei; CN
王厚工 WANG, Hougong; CN
Mandataire :
北京天昊联合知识产权代理有限公司 TEE & HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; 中国北京市 东城区建国门内大街28号民生金融中心D座10层张天舒 Tianshu Zhang 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center, 28 Jianguomennei Avenue, Dongcheng District Beijing 100005, CN
Données relatives à la priorité :
201610929057.931.10.2016CN
Titre (EN) MAGNETIC THIN FILM LAMINATE STRUCTURE DEPOSITION METHOD, MAGNETIC THIN FILM LAMINATE STRUCTURE AND MICRO-INDUCTOR DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE DÉPÔT DE STRUCTURE STRATIFIÉE DE FILM MINCE MAGNÉTIQUE, STRUCTURE STRATIFIÉE DE FILM MINCE MAGNÉTIQUE ET DISPOSITIF DE MICRO-INDUCTEUR
(ZH) 磁性薄膜叠层结构的沉积方法、磁性薄膜叠层结构及微电感器件
Abrégé :
(EN) A magnetic thin film laminate structure deposition method, a magnetic thin film laminate structure and a micro-inductor device. The deposition method comprises the following steps: S1, depositing an adhesive layer (1) on a workpiece to be processed; S2, depositing a magnetic/isolation unit, the magnetic/isolation unit comprising at least one pair of a magnetic film layer (2) and an isolation layer (3) which are alternately arranged. The magnetic thin film laminate structure deposition method, magnetic thin film laminate structure and micro-inductor device increase the total thickness of the magnetic thin film laminate structure, thereby expanding the application frequency range of the inductor device prepared from the structure.
(FR) L'invention concerne un procédé de dépôt de structure stratifiée de film mince magnétique, une structure stratifiée de film mince magnétique et un dispositif de micro-inducteur. Le procédé de dépôt comprend les étapes suivantes : S1, le dépôt d'une couche adhésive (1) sur une pièce à traiter; S2, le dépôt d'une unité magnétique/d'isolation, l'unité magnétique/d'isolation comprenant au moins une paire de couches de film magnétique (2) et d'isolation (3) qui sont agencées de manière alternée. Le procédé de dépôt de structure stratifiée de film mince magnétique, la structure stratifiée de film mince magnétique et le dispositif de micro-inducteur augmentent l'épaisseur totale de la structure stratifiée de film mince magnétique, ce qui permet d'étendre la plage de fréquences d'application du dispositif inducteur préparé à partir de la structure.
(ZH) 一种磁性薄膜叠层结构的沉积方法、磁性薄膜叠层结构及微电感器件,该沉积方法包括以下步骤:S1,在待加工工件上沉积粘附层(1);S2,沉积磁性/隔离单元;磁性/隔离单元包括至少一对交替设置的磁性膜层(2)和隔离层(3);该磁性薄膜叠层结构的沉积方法、磁性薄膜叠层结构及微电感器件,可以增大磁性薄膜叠层结构的总厚度,从而可拓宽由其制备所得的电感器件的应用频率范围。
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)