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1. (WO2018077156) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE CONTRÔLE D'EXPOSITION

Pub. No.:    WO/2018/077156    International Application No.:    PCT/CN2017/107431
Publication Date: Fri May 04 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Oct 25 01:59:59 CEST 2017
IPC: H04N 5/235
Applicants: ZHEJIANG DAHUA TECHNOLOGY CO., LTD.
Inventors: QU, Erping
HUANG, Qianfeng
PAN, Runfa
LI, Liangcheng
Title: SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE CONTRÔLE D'EXPOSITION
Abstract:
La présente invention concerne des systèmes et des procédés permettant de déterminer le réglage d'exposition d'un dispositif d'imagerie ayant un ensemble de paramètres d'exposition. Une luminance cible du dispositif d'imagerie peut être déterminée. Une table de correspondance peut être obtenue. La table de correspondance peut concerner une pluralité de valeurs de luminance de référence et une pluralité de groupes de valeurs opérationnelles de l'ensemble de paramètres d'exposition, un groupe de valeurs opérationnelles correspondant à une valeur de luminance de référence. Une valeur de luminance de référence et un groupe de valeurs opérationnelles de l'ensemble de paramètres d'exposition peuvent être identifiés sur la base de la luminance cible et de la table de correspondance. Un ajustement d'au moins un paramètre d'exposition du dispositif d'imagerie peut être déterminé sur la base du groupe de valeurs opérationnelles identifié. Le ou les paramètres d'exposition du dispositif d'imagerie peuvent être ajustés sur la base de l'ajustement déterminé.