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1. (WO2018077156) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE CONTRÔLE D'EXPOSITION
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N° de publication :    WO/2018/077156    N° de la demande internationale :    PCT/CN2017/107431
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 24.10.2017
CIB :
H04N 5/235 (2006.01)
Déposants : ZHEJIANG DAHUA TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No. 1187 Binan Road, Binjiang District Hangzhou, Zhejiang 310053 (CN)
Inventeurs : QU, Erping; (CN).
HUANG, Qianfeng; (CN).
PAN, Runfa; (CN).
LI, Liangcheng; (CN)
Mandataire : METIS IP (CHENGDU) LLC; (No. 846 South Tianfu Road) Tianfu Innovation Center Chengdu, Sichuan 610213 (CN)
Données relatives à la priorité :
201610957318.8 26.10.2016 CN
201611229065.9 27.12.2016 CN
Titre (EN) SYSTEMS AND METHODS FOR EXPOSURE CONTROL
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE CONTRÔLE D'EXPOSITION
Abrégé : front page image
(EN)The present disclosure relates to systems and methods for determining the exposure setting of an imaging device having a set of exposure parameters. A target luma of the imaging device may be determined. A correspondence table may be obtained. The correspondence table may relate to a plurality of reference luma values and a plurality of groups of operation values of the set of exposure parameters, a group of operation values corresponding to a reference luma value. A reference luma value and a group of operation values of the set of exposure parameters may be identified based on the target luma and the correspondence table. An adjustment of at least one exposure parameter of the imaging device may be determined based on the identified group of operation values. The at least one exposure parameter of the imaging device may be adjusted based on the determined adjustment.
(FR)La présente invention concerne des systèmes et des procédés permettant de déterminer le réglage d'exposition d'un dispositif d'imagerie ayant un ensemble de paramètres d'exposition. Une luminance cible du dispositif d'imagerie peut être déterminée. Une table de correspondance peut être obtenue. La table de correspondance peut concerner une pluralité de valeurs de luminance de référence et une pluralité de groupes de valeurs opérationnelles de l'ensemble de paramètres d'exposition, un groupe de valeurs opérationnelles correspondant à une valeur de luminance de référence. Une valeur de luminance de référence et un groupe de valeurs opérationnelles de l'ensemble de paramètres d'exposition peuvent être identifiés sur la base de la luminance cible et de la table de correspondance. Un ajustement d'au moins un paramètre d'exposition du dispositif d'imagerie peut être déterminé sur la base du groupe de valeurs opérationnelles identifié. Le ou les paramètres d'exposition du dispositif d'imagerie peuvent être ajustés sur la base de l'ajustement déterminé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)