Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales

1. (WO2018076591) PROCÉDÉ POUR DISPOSITIF ET PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE FABRICATION DE MASQUE OU DE SUBSTRAT D'AFFICHAGE

Pub. No.:    WO/2018/076591    International Application No.:    PCT/CN2017/076087
Publication Date: Fri May 04 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Mar 10 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 1/72
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
京东方科技集团股份有限公司
ORDOS YUANSHENG OPTOELECTRONICS CO., LTD.
鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
Inventors: LIN, Zhiming
林治明
WANG, Zhen
王震
ZHANG, Jian
张健
HUANG, Chun Chieh
黄俊杰
Title: PROCÉDÉ POUR DISPOSITIF ET PROCÉDÉ ET SYSTÈME DE FABRICATION DE MASQUE OU DE SUBSTRAT D'AFFICHAGE
Abstract:
Cette invention concerne un procédé pour un dispositif. Le dispositif est utilisé pour fabriquer ou utiliser un masque ou un substrat d'affichage. Le procédé comprend les étapes suivantes consistant à : fournir un masque maître ; une étape de définition de points de mesure comprenant : la définition d'une pluralité de points de mesure sur le masque maître en fonction d'un masque ou d'un substrat d'affichage à mesurer, la pluralité de points de mesure correspondant à des positions où la précision de position de pixel du masque ou du substrat d'affichage à mesurer doit être mesurée ; et une étape de mesure d'une valeur d'erreur comprenant : la mise en place du masque maître dans un système de coordonnées du dispositif, et la mesure de la valeur d'erreur entre le dispositif et le masque maître au niveau de chaque point de mesure.