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1. (WO2018076235) DISPOSITIF DE FORMATION DE TRANSISTOR
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N° de publication :    WO/2018/076235    N° de la demande internationale :    PCT/CN2016/103568
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 27.10.2016
CIB :
B21F 1/00 (2006.01), B21F 23/00 (2006.01)
Déposants : SHINRY TECHNOLOGIES CO., LTD. [CN/CN]; 14/F, Block C1, Nanshan zhiyuan, No.1001, Xueyuan Blvd, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518055 (CN)
Inventeurs : JIANG, Jiahua; (CN).
LI, Yan; (CN).
WU, Renhua; (CN)
Mandataire : SCIHEAD IP LAW FIRM; Room 1508, Huihua Commercial & Trade Building No. 80, XianLie Zhong Road, Yuexiu Guangzhou, Guangdong 510070 (CN)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) TRANSISTOR FORMING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE TRANSISTOR
(ZH) 晶体管的成型装置
Abrégé : front page image
(EN)A transistor forming device, comprising a worktable (110) on which a material transferring bin (120), a positioning member (130), a clamping member (160), a female die (140) and a male die (150) are provided. The forming device enables automatic feeding, the root portion of a pin (102) of a transistor (10) can be clamped before forming, and the root portion of the pin (102) is not drawn when the male die (150) stamps the front portion of the pin (102), thereby preventing a body (101) which is connected to the root portion from being damaged due to tension. Moreover, the forming device has high forming efficiency since it performs feeding and forming mechanically, and has stable and flexibly adjustable stamping forces since it applies a stamping force by means of the male die (150). Therefore, the forming device has high forming precision and good forming precision consistency, without abnormity caused by pressing deformation.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de formation de transistor comprenant une table de travail (110) sur laquelle un bac de transfert de matériau (120), un élément de positionnement (130), un élément de serrage (160), une matrice femelle (140) et une matrice mâle (150) sont disposés. Le dispositif de formation permet une alimentation automatique, la partie racine d'une broche (102) d'un transistor (10) peut être serrée avant la formation, et la partie racine de la broche (102) n'est pas tirée lorsque la matrice mâle (150) frappe la partie avant de la broche (102), empêchant ainsi un corps (101) qui est raccordé à la partie racine d'être endommagée en raison de la tension. De plus, le dispositif de formation présente un rendement de formation élevé étant donné qu'il effectue une alimentation et une formation de manière mécanique, et présente des forces d'estampage stables et ajustables de manière flexible étant donné qu'il applique une force d'estampage au moyen de la matrice mâle (150). Par conséquent, le dispositif de formation présente une précision de formation élevée et une bonne cohérence de précision de formation, sans anomalie provoquée par une déformation par pression.
(ZH)一种晶体管的成型装置,包括机台(110),所述机台(110)上设有转料仓(120)、定位件(130)、夹持件(160)、凹模(140)和凸模(150);该成型装置能够实现自动送料,能够在成型之前先将晶体管(10)引脚(102)的根部夹固,在凸模(150)冲压引脚(102)的头部时,不会拉扯引脚(102)的根部,从而防止与所述根部相连的本体(101)受拉而损坏;并且,由于该成型装置采用机械方式送料和加工成型,因而成型效率高;依靠凸模(150)施加冲压力,因而冲压力十分稳定且灵活可调;因此,该成型装置的成型精度高、成型精度一致性良好,不会产生压制变形的异常。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)