Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018066606) COMPOSITION DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE, COMPOSÉ POLYMÈRE ET COPOLYMÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/066606 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/036151
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 04.10.2017
CIB :
G03F 7/038 (2006.01) ,C08F 20/26 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
038
Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
20
Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone et un seul étant terminé par un seul radical carboxyle ou un sel, anhydride, ester, amide, imide ou nitrile
02
Acides monocarboxyliques contenant moins de dix atomes de carbone; Leurs dérivés
10
Esters
26
Esters contenant de l'oxygène en plus de l'oxygène de la fonction carboxyle
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
039
Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
東京応化工業株式会社 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012, JP
Inventeurs :
長峰 高志 NAGAMINE Takashi; JP
仁藤 豪人 NITO Hideto; JP
藤崎 真史 FUJISAKI Masafumi; JP
藤井 達也 FUJII Tatsuya; JP
福村 友貴 FUKUMURA Yuki; JP
小島 孝裕 KOJIMA Takahiro; JP
鈴木 一生 SUZUKI Issei; JP
池田 卓也 IKEDA Takuya; JP
グエン カンティン NGUYEN KhanhTin; JP
Mandataire :
棚井 澄雄 TANAI Sumio; JP
松本 将尚 MATSUMOTO Masanao; JP
宮本 龍 MIYAMOTO Ryu; JP
飯田 雅人 IIDA Masato; JP
Données relatives à la priorité :
2016-19749205.10.2016JP
2017-17600513.09.2017JP
Titre (EN) RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER COMPOUND, AND COPOLYMER
(FR) COMPOSITION DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSERVE, COMPOSÉ POLYMÈRE ET COPOLYMÈRE
(JA) レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、高分子化合物、並びに、共重合体
Abrégé :
(EN) A resist composition that generates an acid upon exposure to light, while having a solubility in a developer liquid, which is changed by the action of an acid. This resist composition is characterized by containing a polymer compound that has a constituent unit represented by general formula (a0-1). In formula (a0-1), R represents a hydrogen atom, an alkyl group or a halogenated alkyl group; Va0 represents a divalent hydrocarbon group; na0 represents a number of 0-2; Ra00 represents an acid-cleavable group represented by general formula (a0-r1-1); each of Ra01 and Ra02 represents a hydrocarbon group, and Ra01 and Ra02 may combine with each other to form a ring structure; Ya0 represents a quaternary carbon atom; each of Ra031, Ra032 and Ra033 represents a hydrocarbon group, and at least one of Ra031, Ra032 and Ra033 represents a hydrocarbon group that has at least a polar group.
(FR) La présente invention concerne une composition de réserve qui génère un acide lors de l'exposition à la lumière, tout en comportant une solubilité dans un liquide développant, qui est modifiée par l'action d'un acide. Cette composition de réserve est caractérisée en ce qu'elle comprend un composé polymère qui comporte une unité constitutive représentée par la formule générale (a0-1). Dans la formule (a0-1), R représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ou un groupe alkyle halogéné ; Va 0 représente un groupe hydrocarboné divalent ; na0 représente un nombre de 0 à 2 ; Ra00 représente un groupe clivable par un acide représenté par la formule générale (a0-r1-1) ; chacun parmi Ra 01 et Ra02 représente un groupe hydrocarboné, et Ra01 et Ra02 peuvent se combiner les uns avec les autres en vue de former une structure annulaire ; Ya0 représente un atome de carbone quaternaire ; chacun parmi Ra031, Ra032 et Ra033 représente un groupe hydrocarboné, et Ra031 et/ou Ra032 et/ou Ra033 représente un groupe hydrocarboné qui comporte au moins un groupe polaire.
(JA) 露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、一般式(a0-1)で表される構成単位を有する高分子化合物を含むことを特徴とする。式(a0-1)中、Rは、水素原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基である。Vaは、2価の炭化水素基である。na0は0~2である。Ra00は、一般式(a0-r1-1)で表される酸解離性基である。Ra01及びRa02は、炭化水素基である。Ra01とRa02とは相互に結合して、環構造を形成してもよい。Yaは、第4級炭素原子である。Ra031、Ra032及びRa033は、炭化水素基であり、これらのうちの1つ以上は、少なくとも極性基を有する炭化水素基である。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)