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1. (WO2018066448) COMPOSITION DE SILICONE POUR PAPIER OU FILM ANTIADHÉSIF
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N° de publication : WO/2018/066448 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/035208
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 28.09.2017
CIB :
C09K 3/00 (2006.01) ,B32B 27/00 (2006.01) ,C08L 83/07 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
27
Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
83
Compositions contenant des composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant uniquement du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
04
Polysiloxanes
07
contenant du silicium lié à des groupes aliphatiques non saturés
Déposants :
信越化学工業株式会社 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区大手町二丁目6番1号 6-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004, JP
Inventeurs :
小野澤 勇人 ONOZAWA Hayato; JP
中島 勉 NAKAJIMA Tsutomu; JP
Mandataire :
特許業務法人英明国際特許事務所 PATENT PROFESSIONAL CORPORATION EI-MEI PATENT OFFICE; 東京都中央区銀座二丁目16番12号 銀座大塚ビル2階 GINZA OHTSUKA Bldg. 2F, 16-12, Ginza 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061, JP
Données relatives à la priorité :
2016-19822606.10.2016JP
Titre (EN) SILICONE COMPOSITION FOR RELEASE PAPER OR RELEASE FILM
(FR) COMPOSITION DE SILICONE POUR PAPIER OU FILM ANTIADHÉSIF
(JA) 剥離紙用又は剥離フィルム用シリコーン組成物
Abrégé :
(EN) A silicone composition for release paper or release films which comprises (A) an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups in the molecule, (B) an organohydrogenpolysiloxane having, in the molecule, at least three hydrogen atoms each bonded to a silicon atom, (C) a platinum-group metal catalyst, (D) an organic solvent, (E) an ionic compound, and (F) a compound (F-1), which has (f1) and (f3), a compound (F-2), which has (f2) and (f3), or a compound (F-3), which has (f1), (f2), and (f3): (f1) is a group capable of undergoing hydrosilylation; (f2) is a polysiloxane structure; and (f3) is a polyoxyethylene chain.
(FR) L’invention concerne une composition de silicone pour papier ou film antiadhésif qui contient : (A) un organopolysiloxane possédant au moins deux groupes alcényle dans chaque molécule ; (B) un organohydrogènepolysiloxane possédant au moins trois atomes d’hydrogène liés à un atome de silicium dans chaque molécule ; (C) un catalyseur à base de métal du groupe platine ; (D) un solvant organique ; (E) un composé ionique ; (F) un composé possédant (F-1) : (f1) et (f3), (F-2) : (f2) et (f3) ou (F-3) : (f1), (f2) et (f3), (f1) étant un groupe réactif à l'hydrosilylation, (f2) étant une structure polysiloxane et (f3) étant une chaîne polyoxyéthylène.
(JA) (A)1分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン (B)1分子中にケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも3個有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン (C)白金族金属系触媒 (D)有機溶剤 (E)イオン性化合物 (F)(F-1):(f1)及び(f3)、(F-2):(f2)及び(f3)、又は(F-3):(f1)、(f2)及び(f3)を有する化合物 (f1)ヒドロシリル化反応性基 (f2)ポリシロキサン構造 (f3)ポリオキシエチレン鎖 を含む剥離紙用又は剥離フィルム用シリコーン組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)