Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018066372) RÉSINE COMPRENANT UN GROUPE HYDROXYLE PHÉNOLIQUE, ET MATÉRIAU DE RÉSERVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/066372 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/034062
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 21.09.2017
CIB :
C08G 8/36 (2006.01) ,C07D 251/34 (2006.01) ,C08G 65/34 (2006.01) ,G03F 7/032 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
G
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
8
Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols
28
Polycondensats modifiés chimiquement
36
par éthérification
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
251
Composés hétérocycliques contenant des cycles triazine-1, 3, 5
02
non condensés avec d'autres cycles
12
comportant trois liaisons doubles entre chaînons cycliques ou entre chaînons cycliques et chaînons non cycliques
26
avec uniquement des hétéro-atomes liés directement aux atomes de carbone du cycle
30
Atomes d'oxygène uniquement
34
Esters cyanuriques ou isocyanuriques
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
G
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
65
Composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant une liaison éther dans la chaîne principale de la macromolécule
34
à partir de composés hydroxylés ou de leurs dérivés métalliques
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
032
avec des liants
Déposants :
DIC株式会社 DIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都板橋区坂下三丁目35番58号 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520, JP
Inventeurs :
今田 知之 IMADA Tomoyuki; JP
長江 教夫 NAGAE Norio; JP
Mandataire :
河野 通洋 KONO Michihiro; JP
Données relatives à la priorité :
2016-19720305.10.2016JP
Titre (EN) PHENOLIC HYDROXYL GROUP-CONTAINING RESIN AND RESIST MATERIAL
(FR) RÉSINE COMPRENANT UN GROUPE HYDROXYLE PHÉNOLIQUE, ET MATÉRIAU DE RÉSERVE
(JA) フェノール性水酸基含有樹脂及びレジスト材料
Abrégé :
(EN) The purpose of the invention is to provide: a phenolic hydroxyl group-containing resin that has excellent flowability and provides excellent heat resistance and dry etching resistance in a cured product; and a curable composition and a resist material containing said resin. Provided is a phenolic hydroxyl group-containing resin which is a reaction product of a bisnaphthol compound (a1) represented by structural formula (1) (wherein X represents a C1-14 hydrocarbon group, R1s each independently represent an aliphatic hydrocarbon group, an alkoxy group, a halogen atom, an aryl group or an aralkyl group, m is 0, 1 or 2, and n is an integer of 0 or 1 to 4) and a cyanuric halide (a2), the phenolic hydroxyl group-containing resin having a polydispersity (Mw/Mn) within a range from 1.01 to 1.30.
(FR) L’invention a pour objet de fournir une résine comprenant un groupe hydroxyle phénolique qui présente une excellente fluidité, et dont la résistance à la chaleur sous forme d’article durci et la résistance à la gravure sèche sont élevées, et également de fournir une composition durcissable ainsi qu’un matériau de réserve qui comprennent cette résine. Plus précisément, l’invention fournit une résine comprenant un groupe hydroxyle phénolique qui consiste en un produit de réaction d’un composé bisnaphtol (a1) représenté par la formule structurale (1) (Dans la formule, X représente un groupe hydrocarbure de 1 à 14 atomes de carbone. R représentent chacun indépendamment un groupe hydrocarbure aliphatique ou un groupe alcoxy ou un atome d’halogène ou un groupe aryle ou un groupe aralkyle. m vaut 0, 1 ou 2, et n vaut 0 ou représente un nombre entier de 1 à 4.), et d’un halogénure cyanurique (a2), sa polydispersité (Mw/Mn) étant comprise dans une plage de 1,01 à 1,30.
(JA) 流動性に優れ、硬化物における耐熱性及びドライエッチング耐性が高いフェノール性水酸基含有樹脂、これを含有する硬化性組成物、及びレジスト材料を提供することを目的とし、下記構造式(1)(式中Xは炭素原子数1~14の炭化水素基を表す。Rはそれぞれ独立に脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基の何れかである。mは0、1又は2、nは0又は1~4の整数である。) で表されるビスナフトール化合物(a1)とハロゲン化シアヌル(a2)との反応生成物であって、多分散度(Mw/Mn)が1.01~1.30の範囲であるフェノール性水酸基含有樹脂を提供する。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)