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1. (WO2018066325) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, PRODUIT INTERMÉDIAIRE ATTRIBUÉ PAR MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
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N° de publication :    WO/2018/066325    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/032923
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 12.09.2017
CIB :
C23C 14/04 (2006.01), C23F 1/00 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01), C23F 1/02 (2006.01)
Déposants : DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Ichigaya-kaga-cho 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001 (JP)
Inventeurs : IKENAGA Chikao; (JP).
MARUOKA Takanori; (JP).
MATSUURA Sachiyo; (JP)
Mandataire : NAGAI Hiroshi; (JP).
NAKAMURA Yukitaka; (JP).
SATO Yasukazu; (JP).
ASAKURA Satoru; (JP).
HOTTA Yukihiro; (JP).
OKAMURA Kazuro; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-199420 07.10.2016 JP
Titre (EN) VAPOR DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD, VAPOR DEPOSITION MASK-ALLOCATED INTERMEDIATE PRODUCT, AND VAPOR DEPOSITION MASK
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, PRODUIT INTERMÉDIAIRE ATTRIBUÉ PAR MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクが割り付けられた中間製品及び蒸着マスク
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] The present invention addresses the problem of manufacturing a vapor deposition mask wherein deformation of long sides is suppressed. [Solution] This vapor deposition mask manufacturing method is provided with: a step for preparing a metal plate; a processing step for processing the metal plate into an intermediate product that is provided with a plurality of vapor deposition mask portions, which include a pair of long sides and a pair of short sides, and in which a plurality of through holes are formed, and a supporting portion, which surrounds the vapor deposition mask portions, and which is partially connected to the short sides of the vapor deposition mask portions; and a separating step for obtaining vapor deposition masks by separating the vapor deposition mask portions from the supporting portion. In the intermediate product, the long sides of the vapor deposition mask portions are not connected to the supporting portion.
(FR)La présente invention aborde le problème de la fabrication d'un masque de dépôt en phase vapeur selon lequel la déformation de côtés longs est empêchée. La solution consiste en un procédé de fabrication de masque de dépôt en phase vapeur qui comprend : une étape consistant à préparer une plaque métallique ; une étape de traitement consistant à traiter la plaque métallique en un produit intermédiaire qui comporte une pluralité de parties de masque de dépôt en phase vapeur, qui comprennent une paire de côtés longs et une paire de côtés courts, et dans lesquelles une pluralité de trous traversants sont formés, et une partie de support, qui entoure les parties de masque de dépôt en phase vapeur, et qui est partiellement reliée aux côtés courts des parties de masque de dépôt en phase vapeur ; et une étape de séparation consistant à obtenir des masques de dépôt en phase vapeur en séparant les parties de masque de dépôt en phase vapeur de la partie de support. Dans le produit intermédiaire, les côtés longs des parties de masque de dépôt en phase vapeur ne sont pas reliés à la partie de support.
(JA)[課題]長辺の変形が抑制された蒸着マスクを製造する。 [解決手段]蒸着マスクの製造方法は、金属板を準備する工程と、金属板を、一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された複数の蒸着マスク部分と、複数の蒸着マスク部分を囲むとともに複数の蒸着マスク部分の短辺に部分的に接続されている支持部分と、を備える中間製品に加工する加工工程と、蒸着マスク部分を支持部分から分離して蒸着マスクを得る分離工程と、を備える。中間製品において、蒸着マスク部分の長辺は、支持部分に接続されていない。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)