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1. (WO2018066325) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, PRODUIT INTERMÉDIAIRE ATTRIBUÉ PAR MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
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N° de publication : WO/2018/066325 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/032923
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 12.09.2017
CIB :
C23C 14/04 (2006.01) ,C23F 1/00 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,C23F 1/02 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
04
Revêtement de parties déterminées de la surface, p.ex. au moyen de masques
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
F
ENLÈVEMENT NON MÉCANIQUE DE MATÉRIAU MÉTALLIQUE DES SURFACES; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; MOYENS POUR EMPÊCHER L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL; PROCÉDÉS À ÉTAPES MULTIPLES POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES UTILISANT AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT PAR LA CLASSE C23 ET AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C21D, SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C22F, SOIT PAR LA CLASSE C25308
1
Décapage de matériaux métalliques par des moyens chimiques
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51
Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50
spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
B
CHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
33
Sources de lumière électroluminescentes
10
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication des sources de lumière électroluminescentes
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
F
ENLÈVEMENT NON MÉCANIQUE DE MATÉRIAU MÉTALLIQUE DES SURFACES; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; MOYENS POUR EMPÊCHER L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL; PROCÉDÉS À ÉTAPES MULTIPLES POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES UTILISANT AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT PAR LA CLASSE C23 ET AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C21D, SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C22F, SOIT PAR LA CLASSE C25308
1
Décapage de matériaux métalliques par des moyens chimiques
02
Gravure locale
Déposants : DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.[JP/JP]; 1-1, Ichigaya-kaga-cho 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001, JP
Inventeurs : IKENAGA Chikao; JP
MARUOKA Takanori; JP
MATSUURA Sachiyo; JP
Mandataire : NAGAI Hiroshi; JP
NAKAMURA Yukitaka; JP
SATO Yasukazu; JP
ASAKURA Satoru; JP
HOTTA Yukihiro; JP
OKAMURA Kazuro; JP
Données relatives à la priorité :
2016-19942007.10.2016JP
Titre (EN) VAPOR DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD, VAPOR DEPOSITION MASK-ALLOCATED INTERMEDIATE PRODUCT, AND VAPOR DEPOSITION MASK
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, PRODUIT INTERMÉDIAIRE ATTRIBUÉ PAR MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクが割り付けられた中間製品及び蒸着マスク
Abrégé :
(EN) [Problem] The present invention addresses the problem of manufacturing a vapor deposition mask wherein deformation of long sides is suppressed. [Solution] This vapor deposition mask manufacturing method is provided with: a step for preparing a metal plate; a processing step for processing the metal plate into an intermediate product that is provided with a plurality of vapor deposition mask portions, which include a pair of long sides and a pair of short sides, and in which a plurality of through holes are formed, and a supporting portion, which surrounds the vapor deposition mask portions, and which is partially connected to the short sides of the vapor deposition mask portions; and a separating step for obtaining vapor deposition masks by separating the vapor deposition mask portions from the supporting portion. In the intermediate product, the long sides of the vapor deposition mask portions are not connected to the supporting portion.
(FR) La présente invention aborde le problème de la fabrication d'un masque de dépôt en phase vapeur selon lequel la déformation de côtés longs est empêchée. La solution consiste en un procédé de fabrication de masque de dépôt en phase vapeur qui comprend : une étape consistant à préparer une plaque métallique ; une étape de traitement consistant à traiter la plaque métallique en un produit intermédiaire qui comporte une pluralité de parties de masque de dépôt en phase vapeur, qui comprennent une paire de côtés longs et une paire de côtés courts, et dans lesquelles une pluralité de trous traversants sont formés, et une partie de support, qui entoure les parties de masque de dépôt en phase vapeur, et qui est partiellement reliée aux côtés courts des parties de masque de dépôt en phase vapeur ; et une étape de séparation consistant à obtenir des masques de dépôt en phase vapeur en séparant les parties de masque de dépôt en phase vapeur de la partie de support. Dans le produit intermédiaire, les côtés longs des parties de masque de dépôt en phase vapeur ne sont pas reliés à la partie de support.
(JA) [課題]長辺の変形が抑制された蒸着マスクを製造する。 [解決手段]蒸着マスクの製造方法は、金属板を準備する工程と、金属板を、一対の長辺及び一対の短辺を含むとともに複数の貫通孔が形成された複数の蒸着マスク部分と、複数の蒸着マスク部分を囲むとともに複数の蒸着マスク部分の短辺に部分的に接続されている支持部分と、を備える中間製品に加工する加工工程と、蒸着マスク部分を支持部分から分離して蒸着マスクを得る分離工程と、を備える。中間製品において、蒸着マスク部分の長辺は、支持部分に接続されていない。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)