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1. (WO2018066285) DISPOSITIF DE BALAYAGE DE FAISCEAU, DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF ET PROCÉDÉ D’EXAMEN DE PRÉCISION DE DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF
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N° de publication : WO/2018/066285 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/031735
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 04.09.2017
CIB :
G02B 26/12 (2006.01) ,B23K 26/00 (2014.01) ,B23K 26/082 (2014.01) ,G02B 26/10 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION[JP/JP]; 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventeurs : KATO Masaki; JP
KITO Yoshiaki; JP
HAYASHIDA Yosuke; JP
Mandataire : CHIBA Yoshihiro; JP
MIYADERA Toshiyuki; JP
SENBA Takayuki; JP
OUCHI Hideharu; JP
NAKASONE Yasuharu; JP
SAKAI Shiro; JP
SEKIGUCHI Kosuke; JP
YAMANO Akira; JP
Données relatives à la priorité :
2016-19644004.10.2016JP
Titre (EN) BEAM SCANNING DEVICE, PATTERN DRAWING DEVICE, AND METHOD FOR EXAMINING ACCURACY OF PATTERN DRAWING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE BALAYAGE DE FAISCEAU, DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF ET PROCÉDÉ D’EXAMEN DE PRÉCISION DE DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF
(JA) ビーム走査装置、パターン描画装置、およびパターン描画装置の精度検査方法
Abrégé : front page image
(EN) An exposure device (EX) projects, on each of a plurality of reflective surfaces (RP) of a polygon mirror (PM) that rotates around a rotational axis (AXp), a processing beam (LBn), and scans, on a substrate (P) via an fθ lens system (FT), the processing beam (LBn) reflected by each of the plurality of reflective surfaces (RP). The exposure device (EX) is provided with: a starting point sensor which generates a starting point signal (SZn) each time any of the plurality of reflective surfaces (RP) of the polygon mirror (PM) reaches a prescribed angle; and a correction unit which generates corrected starting point signals (SZn') which have been corrected using correction values corresponding to the variation amounts in the time intervals between the generated starting point signals (SZn) corresponding to each of the plurality of reflective surfaces (RP).
(FR) Selon la présente invention, un dispositif d’exposition (EX) projette, sur chacune d’une pluralité de surfaces réfléchissantes (RP) d’un miroir polygonal (PM) qui tourne autour d’un axe de rotation (AXp), un faisceau de traitement (LBn), et balaye, sur un substrat (P) par l’intermédiaire d’un système de lentilles fθ (FT), le faisceau de traitement (LBn) réfléchi par chacune de la pluralité de surfaces réfléchissantes (RP). Le dispositif d’exposition (EX) est pourvu de : un capteur de point de départ qui génère un signal de point de départ (SZn) chaque fois que l’une quelconque de la pluralité de surfaces réfléchissantes (RP) du miroir polygonal (PM) atteint un angle prescrit ; et une unité de correction qui génère des signaux de point de départ corrigés (SZn’) qui ont été corrigés au moyen de valeurs de correction correspondant aux quantités de variation dans les intervalles de temps entre les signaux de point de départ générés (SZn) correspondant à chacune de la pluralité de surfaces réfléchissantes (RP).
(JA) 露光装置(EX)は、回転軸(AXp)の回りに回転するポリゴンミラー(PM)の複数の反射面(RP)の各々に加工用のビーム(LBn)を投射し、複数の反射面(RP)の各々で反射された加工用のビーム(LBn)を、fθレンズ系(FT)を介して基板(P)上で走査するものである。この露光装置(EX)は、ポリゴンミラー(PM)の複数の反射面(RP)の各々が所定の規定角度になるたびに原点信号(SZn)を発生する原点センサと、複数の反射面(RP)の各々に対応して発生する原点信号(SZn)の時間的な間隔のばらつき量に応じた補正値によって補正した補正原点信号(SZn')を生成する補正部と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)