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1. (WO2018066247) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UNE LUMIÈRE ACTIVE OU À UN RAYONNEMENT ACTIF, FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE

Pub. No.:    WO/2018/066247    International Application No.:    PCT/JP2017/030173
Publication Date: Fri Apr 13 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Aug 24 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/039
G03F 7/004
G03F 7/20
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: MARUMO Kazuhiro
丸茂 和博
TANGO Naohiro
丹呉 直紘
Title: COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UNE LUMIÈRE ACTIVE OU À UN RAYONNEMENT ACTIF, FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
Abstract:
L'invention concerne : une composition de résine sensible à une lumière active ou à un rayonnement actif, à partir de laquelle un film de réserve peut être formé qui possède une excellente propriété hydrofuge et présente, après mise en contact avec une solution de développement alcaline, une propriété hydrophile améliorée, et sur laquelle un motif présentant une excellente rugosité de largeur de ligne (LWR) peut être formé ; un film de réserve ; un procédé de formation de motif ; ainsi qu'un procédé de fabrication de dispositif électronique. Cette composition de résine sensible à une lumière active ou à un rayonnement actif contient une résine A dont la solubilité dans une solution de développement alcaline est augmentée par l'action d'un acide, un composé B qui génère un acide en étant soumis à un rayonnement à l'aide d'une lumière active ou d'un rayonnement actif, une résine C qui possède une énergie de surface supérieure à 25 mJ/m 2 , qui comprend au moins des atomes de fluor ou des atomes de silicium et comprend un groupe de conversion de polarité, ainsi qu'une résine D qui possède une énergie de surface de 25 mJ/m 2 ou moins. La quantité contenue de la résine D est d'au moins 1,1 %m par rapport au contenu solide total de la composition de résine sensible à une lumière active ou à un rayonnement actif.