Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018066159) DISPOSITIF SERVANT À DESSINER DES MOTIFS ET PROCÉDÉ SERVANT À DESSINER DES MOTIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/066159 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/018139
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 15.05.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 26/10 (2006.01) ,G02B 26/12 (2006.01) ,H05K 3/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
26
Dispositifs ou systèmes optiques utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables pour commander l'intensité, la couleur, la phase, la polarisation ou la direction de la lumière, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation
08
pour commander la direction de la lumière
10
Systèmes de balayage
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
26
Dispositifs ou systèmes optiques utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables pour commander l'intensité, la couleur, la phase, la polarisation ou la direction de la lumière, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation
08
pour commander la direction de la lumière
10
Systèmes de balayage
12
utilisant des miroirs à facettes multiples
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
Déposants :
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventeurs :
加藤正紀 KATO Masaki; JP
中山修一 NAKAYAMA Shuichi; JP
Mandataire :
千葉剛宏 CHIBA Yoshihiro; JP
宮寺利幸 MIYADERA Toshiyuki; JP
千馬隆之 SENBA Takayuki; JP
大内秀治 OUCHI Hideharu; JP
仲宗根康晴 NAKASONE Yasuharu; JP
坂井志郎 SAKAI Shiro; JP
関口亨祐 SEKIGUCHI Kosuke; JP
山野明 YAMANO Akira; JP
Données relatives à la priorité :
2016-19679704.10.2016JP
Titre (EN) PATTERN DRAWING DEVICE AND PATTERN DRAWING METHOD
(FR) DISPOSITIF SERVANT À DESSINER DES MOTIFS ET PROCÉDÉ SERVANT À DESSINER DES MOTIFS
(JA) パターン描画装置、およびパターン描画方法
Abrégé :
(EN) This pattern drawing device (EX) is provided with: a position measurement unit (MU) which measures the position of an area to be exposed on a substrate (P) to be drawn on by a plurality of drawing units (Un); a first adjustment member (HVP) which, in order to reduce position errors in the patterns respectively drawn by the drawing units (Un) on the area to be exposed, adjusts the positions of spot lights (SP) from each of the drawing units (Un) in a second direction during movement of the substrate (P), on the basis of the position measured by the position measurement unit (MU); and a second adjustment member (AOM1) which, in order to reduce joining errors in the patterns respectively drawn by the drawing units (Un) in the second direction, adjusts the positions of the spot lights (SP) from each of the drawing units (Un) in the second direction with a higher responsiveness than the first adjustment member (HVP), during movement of the substrate (P).
(FR) L'invention concerne un dispositif servant à dessiner des motifs (EX) comportant : une unité de mesure de position (MU) qui mesure la position d'une zone devant être exposée sur un substrat (P) où une pluralité d'unités de dessin (Un) dessinera ; un premier élément de réglage (HVP) qui, afin de réduire les erreurs de position dans les motifs dessinés respectivement par les unités de dessin (Un) sur la zone devant être exposée, règle les positions de lumières ponctuelles (SP) à partir de chacune des unités de dessin (Un) dans une deuxième direction au cours du déplacement du substrat (P), en fonction de la position mesurée par l'unité de mesure de position (MU) ; et un deuxième élément de réglage (AOM1) qui, afin de réduire les erreurs de jonction dans les motifs dessinés respectivement par les unités de dessin (Un) dans la deuxième direction, règle les positions des lumières ponctuelles (SP) à partir de chacune des unités de dessin (Un) dans la deuxième direction avec une réactivité plus élevée par rapport au premier élément de réglage (HVP), au cours du mouvement du substrat (P).
(JA) パターン描画装置(EX)は、複数の描画ユニット(Un)によって描画すべき基板(P)上の被露光領域の位置を計測する位置計測部(MU)と、描画ユニット(Un)の各々で描画されるパターンの被露光領域に対する位置誤差を低減する為に、位置計測部(MU)で計測された位置に基づいて描画ユニット(Un)の各々によるスポット光(SP)の位置を基板(P)の移動中に第2方向に調整する第1調整部材(HVP)と、描画ユニット(Un)の各々で描画されるパターンの第2方向に関する継ぎ誤差を低減する為に、描画ユニット(Un)の各々によるスポット光(SP)の位置を基板(P)の移動中に第1調整部材(HVP)よりも高い応答性で第2方向に調整する第2調整部材(AOM1)と、を備える。
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)