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1. (WO2018066159) DISPOSITIF SERVANT À DESSINER DES MOTIFS ET PROCÉDÉ SERVANT À DESSINER DES MOTIFS
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N° de publication : WO/2018/066159 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/018139
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 15.05.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 26/10 (2006.01) ,G02B 26/12 (2006.01) ,H05K 3/00 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION[JP/JP]; 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventeurs : KATO Masaki; JP
NAKAYAMA Shuichi; JP
Mandataire : CHIBA Yoshihiro; JP
MIYADERA Toshiyuki; JP
SENBA Takayuki; JP
OUCHI Hideharu; JP
NAKASONE Yasuharu; JP
SAKAI Shiro; JP
SEKIGUCHI Kosuke; JP
YAMANO Akira; JP
Données relatives à la priorité :
2016-19679704.10.2016JP
Titre (EN) PATTERN DRAWING DEVICE AND PATTERN DRAWING METHOD
(FR) DISPOSITIF SERVANT À DESSINER DES MOTIFS ET PROCÉDÉ SERVANT À DESSINER DES MOTIFS
(JA) パターン描画装置、およびパターン描画方法
Abrégé : front page image
(EN) This pattern drawing device (EX) is provided with: a position measurement unit (MU) which measures the position of an area to be exposed on a substrate (P) to be drawn on by a plurality of drawing units (Un); a first adjustment member (HVP) which, in order to reduce position errors in the patterns respectively drawn by the drawing units (Un) on the area to be exposed, adjusts the positions of spot lights (SP) from each of the drawing units (Un) in a second direction during movement of the substrate (P), on the basis of the position measured by the position measurement unit (MU); and a second adjustment member (AOM1) which, in order to reduce joining errors in the patterns respectively drawn by the drawing units (Un) in the second direction, adjusts the positions of the spot lights (SP) from each of the drawing units (Un) in the second direction with a higher responsiveness than the first adjustment member (HVP), during movement of the substrate (P).
(FR) L'invention concerne un dispositif servant à dessiner des motifs (EX) comportant : une unité de mesure de position (MU) qui mesure la position d'une zone devant être exposée sur un substrat (P) où une pluralité d'unités de dessin (Un) dessinera ; un premier élément de réglage (HVP) qui, afin de réduire les erreurs de position dans les motifs dessinés respectivement par les unités de dessin (Un) sur la zone devant être exposée, règle les positions de lumières ponctuelles (SP) à partir de chacune des unités de dessin (Un) dans une deuxième direction au cours du déplacement du substrat (P), en fonction de la position mesurée par l'unité de mesure de position (MU) ; et un deuxième élément de réglage (AOM1) qui, afin de réduire les erreurs de jonction dans les motifs dessinés respectivement par les unités de dessin (Un) dans la deuxième direction, règle les positions des lumières ponctuelles (SP) à partir de chacune des unités de dessin (Un) dans la deuxième direction avec une réactivité plus élevée par rapport au premier élément de réglage (HVP), au cours du mouvement du substrat (P).
(JA) パターン描画装置(EX)は、複数の描画ユニット(Un)によって描画すべき基板(P)上の被露光領域の位置を計測する位置計測部(MU)と、描画ユニット(Un)の各々で描画されるパターンの被露光領域に対する位置誤差を低減する為に、位置計測部(MU)で計測された位置に基づいて描画ユニット(Un)の各々によるスポット光(SP)の位置を基板(P)の移動中に第2方向に調整する第1調整部材(HVP)と、描画ユニット(Un)の各々で描画されるパターンの第2方向に関する継ぎ誤差を低減する為に、描画ユニット(Un)の各々によるスポット光(SP)の位置を基板(P)の移動中に第1調整部材(HVP)よりも高い応答性で第2方向に調整する第2調整部材(AOM1)と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)