Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018065195) SYSTÈME DE TRANSPORT DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/065195 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/073437
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 18.09.2017
CIB :
H05H 7/06 (2006.01) ,H05H 7/00 (2006.01) ,H05H 9/00 (2006.01) ,G01T 1/29 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
7
Détails des dispositifs des types couverts par les groupes H05H9/-H05H13/111
06
Dispositions à deux faisceaux; Dispositions multifaisceaux
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
7
Détails des dispositifs des types couverts par les groupes H05H9/-H05H13/111
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
9
Accélérateurs linéaires
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
T
MESURE DES RADIATIONS NUCLÉAIRES OU DES RAYONS X
1
Mesure des rayons X, des rayons gamma, des radiations corpusculaires ou des radiations cosmiques
29
Mesure effectuée sur des faisceaux de radiations, p.ex. sur la position ou la section du faisceau; Mesure de la distribution spatiale de radiations
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
KLUNDER, Roelof, Harm; NL
POORTER, Gijsbertus, Geert; NL
VAN DEN HOMBERG, Johannes, Aldegonda, Theodorus, Marie; NL
Mandataire :
SLENDERS, Peter; NL
Données relatives à la priorité :
16192333.905.10.2016EP
Titre (EN) ELECTRON BEAM TRANSPORT SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE TRANSPORT DE FAISCEAU D'ÉLECTRONS
Abrégé :
(EN) An electron beam transport system for controlling the position of two different electron beams comprises: a main electron beam transport module; a first input electron beam transport module; a second input electron beam transport module; and a controller. The main electron beam transport module comprises a beam monitoring device disposed at a measurement position. The first input electron beam transport module comprises a first actuator for applying a perturbation to a transverse position of a first electron beam at a first actuation point. The second input electron beam transport module comprises a second actuator for applying a perturbation to a transverse position of a second electron beam at a second actuation point. The controller is operable to receive a signal from the beam monitoring device and to send control signals to the first actuator and the second actuator. The controller is operable to determine a first quantity indicative of a difference in a transverse position of the first and second electron beams and a second quantity indicative of an average transverse position of the first and second electron beams. The controller is further operable to control the trajectories of the first and second electron beams independently by implementing a first control loop that iteratively attempts to reduce the first quantity by using the first actuator to perturb a trajectory of the first electron beam, and a second control loop that iteratively perturbs a trajectory of the second electron beam using the second actuator such that the average transverse position of the two different electron beams moves towards a desired transverse position.
(FR) Un système de transport de faisceau d'électrons pour commander la position de deux faisceaux d'électrons différents comprend : un module de transport de faisceau d'électrons principal ; un premier module de transport de faisceau d'électrons d'entrée ; un second module de transport de faisceau d'électrons d'entrée ; et un dispositif de commande. Le module de transport de faisceau d'électrons principal comprend un dispositif de surveillance de faisceau disposé au niveau d'une position de mesure. Le premier module de transport de faisceau d'électrons d'entrée comprend un premier actionneur pour appliquer une perturbation à une position transversale d'un premier faisceau d'électrons au niveau d'un premier point d'actionnement. Le second module de transport de faisceau d'électrons d'entrée comprend un second actionneur pour appliquer une perturbation à une position transversale d'un second faisceau d'électrons au niveau d'un second point d'actionnement. Le dispositif de commande a pour fonction de recevoir un signal provenant du dispositif de surveillance de faisceau et d'envoyer des signaux de commande au premier actionneur et au second actionneur. Le dispositif de commande a pour fonction de déterminer une première quantité indiquant une différence dans une position transversale des premier et second faisceaux d'électrons et une seconde quantité indiquant une position transversale moyenne des premier et second faisceaux d'électrons. Le dispositif de commande a en outre pour fonction de commander les trajectoires des premier et second faisceaux d'électrons indépendamment en mettant en œuvre une première boucle de commande qui tente de manière itérative de réduire la première quantité en utilisant le premier actionneur pour perturber une trajectoire du premier faisceau d'électrons, et une seconde boucle de commande qui perturbe de manière itérative une trajectoire du second faisceau d'électrons à l'aide du second actionneur de telle sorte que la position transversale moyenne des deux faisceaux d'électrons différents se déplace vers une position transversale souhaitée.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)