Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018065167) PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION D'UN PROFIL DE HAUTEUR, SYSTÈME DE MESURE ET SUPPORT LISIBLE PAR ORDINATEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/065167 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/072590
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 08.09.2017
CIB :
G03F 9/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
9
Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
DONKERBROEK, Arend, Johannes; NL
COTTAAR, Jeroen; NL
THEEUWES, Thomas; NL
KOOP, Erik, Johan; NL
Mandataire :
KETTING, Alfred; NL
Données relatives à la priorité :
16192548.206.10.2016EP
Titre (EN) A METHOD OF DETERMINING A HEIGHT PROFILE, A MEASUREMENT SYSTEM AND A COMPUTER READABLE MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTERMINATION D'UN PROFIL DE HAUTEUR, SYSTÈME DE MESURE ET SUPPORT LISIBLE PAR ORDINATEUR
Abrégé :
(EN) Method of measuring a height profile of one or more substrates is provided comprising measuring a first height profile of one or more fields on a substrate using a first sensor arrangement, the first height profile being the sum of a first interfield part and a first intrafield part, measuring a second height profile of one or more further fields on the substrate or on a further substrate using a second sensor arrangement, the second height profile being the sum of a second interfield part and a second intrafield part, determining from the measurements with the first sensor arrangement an average first intrafield part, and determining the height profile of the further fields from the second interfield part and the average first intrafield part thereby correcting the measurements of the second sensor arrangement.
(FR) La présente invention se rapporte à un procédé de mesure d'un profil de hauteur d'un ou plusieurs substrats, qui consiste à mesurer un premier profil de hauteur d'un ou plusieurs champs sur un substrat à l'aide d'un premier agencement de capteur, le premier profil de hauteur étant la somme d'une première partie inter-champ et d'une première partie intra-champ, à mesurer un second profil de hauteur d'un ou plusieurs autres champs sur le substrat ou sur un autre substrat à l'aide d'un second agencement de capteur, le second profil de hauteur étant la somme d'une seconde partie inter-champ et d'une seconde partie intra-champ, à déterminer à partir des mesures avec le premier agencement de capteur une première partie intra-champ moyenne, et à déterminer le profil de hauteur des autres champs à partir de la seconde partie inter-champ et de la première partie intra-champ moyenne, ce qui permet de corriger les mesures du second agencement de capteur.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)