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1. (WO2018064827) PROCÉDÉ DE MESURE D'ABERRATION D'ONDE DE SYSTÈME PERMETTANT D'ÉTALONNER UNE ERREUR DE SYSTÈME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/064827 N° de la demande internationale : PCT/CN2016/101556
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 09.10.2016
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G01M 11/02 (2006.01)
Déposants : CHANGCHUN INSTITUTE OF OPTICS, FINE MECHANICS AND PHYSICS, CHINESE ACADEMY OF SCIENCES[CN/CN]; Dong Nanhu Road 3888 Changchun, Jilin 130033, CN
Inventeurs : YU, Changsong; CN
GAO, Songtao; CN
PENG, Shijun; CN
MIAO, Erlong; CN
SUI, Yongxin; CN
YANG, Huaijiang; CN
Mandataire : CHINA SCIENCE PATENT & TRADEMARK AGENT LTD.; Suite 4-1105, No. 87, West 3rd Ring North Rd. Haidian District, Beijing 100089, CN
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SYSTEM WAVE ABERRATION MEASUREMENT METHOD CAPABLE OF CALIBRATING SYSTEM ERROR
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE D'ABERRATION D'ONDE DE SYSTÈME PERMETTANT D'ÉTALONNER UNE ERREUR DE SYSTÈME
(ZH) 一种可标定系统误差的系统波像差检测方法
Abrégé : front page image
(EN) Provided is a system wave aberration measurement method capable of calibrating system error; subtraction is performed between the system error of a tested projection lens (8) and the system error of a shear interference measurement system to obtain the actual wave aberration of the tested projection lens (8), eliminating the effect of system error and increasing measurement accuracy; using a small-aperture spatial filter (4) performs a filtering function and enables the aberration caused by an illumination system (2) and a first convergent lens (3) to be eliminated, thus improving accuracy in measuring system wave aberration; the spatial filter (202) is such that only ±1 order of diffracted light may pass through a window in the spatial filter (202); zero- and higher-order diffracted light is cut off by the spatial filter (202), thus reducing noise improving measurement accuracy.
(FR) La présente invention concerne un procédé de mesure d'aberration d'onde de système qui permet d'étalonner une erreur de système. Une soustraction est effectuée entre l'erreur de système d'un objectif de projection testé (8) et l'erreur de système d'un système de mesure d'interférence de cisaillement afin d'obtenir l'aberration d'onde réelle de l'objectif de projection testé (8), ce qui supprime l'effet d'erreur de système et accroît la précision de mesure. L'utilisation d'un filtre spatial à faible ouverture (4) assure une fonction de filtrage et permet de supprimer l'aberration provoquée par un système d'éclairage (2) et une première lentille convergente (3), améliorant ainsi la précision de mesure d'aberration d'onde de système. Le filtre spatial (202) est tel que seulement ±1 ordre de lumière diffractée peut passer à travers une fenêtre dans ce filtre spatial (202). La lumière diffractée d'ordre zéro et d'ordre supérieur est coupée par ledit filtre spatial (202), réduisant ainsi le bruit et améliorant la précision de mesure.
(ZH) 一种可标定系统误差的系统波像差检测方法,将被测投影物镜(8)的系统波像差与剪切干涉检测系统的系统误差相减,获得被测投影物镜(8)实际波像差,消除了系统误差的影响,提高了测量精度;采用的小孔空间滤波器(4)可以起到滤波的作用,可以消除照明系统(2)及第一汇聚透镜(3)所导致的像差,提高了系统波像差的检测精度;空间滤波器(202)使得只有±1级衍射光才能通过空间滤波器(202)中的窗口,零级以及更高级次的衍射光都被空间滤波器(202)截止,从而使得噪声减小并且测量精度获得改善。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)