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1. (WO2018063733) ZONE HAUTE DENSITÉ LOCALE POUR ENSEMBLE CARTE UTILISANT UN PROCESSUS DE MÉTALLISATION PAR STRUCTURATION LASER

Pub. No.:    WO/2018/063733    International Application No.:    PCT/US2017/049704
Publication Date: Fri Apr 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Sep 01 01:59:59 CEST 2017
IPC: H01L 23/14
H01L 23/00
Applicants: INTEL CORPORATION
Inventors: HUA, Fay
ELSHERBINI, Adel A.
Title: ZONE HAUTE DENSITÉ LOCALE POUR ENSEMBLE CARTE UTILISANT UN PROCESSUS DE MÉTALLISATION PAR STRUCTURATION LASER
Abstract:
Cette invention se rapporte à des procédés de formation de structures de boîtiers microélectroniques. Ces procédés/structures peuvent comprendre la formation d'une région de haute densité sur une carte comprenant une première pluralité de structures conductrices disposées sur un matériau diélectrique sur la carte, la première pluralité de structures conductrices comprenant un premier pas entre des structures individuelles de la première pluralité de structures conductrices. Une région de faible densité sur la carte comprend une seconde pluralité de structures conductrices disposées sur le matériau diélectrique, la seconde pluralité de structures conductrices comprenant un second pas entre des structures individuelles de la seconde pluralité de structures conductrices, le second pas étant supérieur à environ deux fois l'amplitude du premier pas.