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1. (WO2018063497) ÉLÉMENT D'ANTENNE PATCH ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT D'ANTENNE PATCH
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N° de publication : WO/2018/063497 N° de la demande internationale : PCT/US2017/045199
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 03.08.2017
CIB :
H01Q 9/04 (2006.01) ,H01Q 1/38 (2006.01)
[IPC code unknown for H01Q 9/04][IPC code unknown for H01Q 1/38]
Déposants :
INTEL IP CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, CA 95054, US
Inventeurs :
HAGN, Josef; DE
ASAF, Omer; IL
Mandataire :
ARABI, Mani; DE
Données relatives à la priorité :
16191341.329.09.2016EP
Titre (EN) PATCH ANTENNA ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING A PATCH ANTENNA ELEMENT
(FR) ÉLÉMENT D'ANTENNE PATCH ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT D'ANTENNE PATCH
Abrégé :
(EN) The present disclosure relates to a patch antenna element comprising a substrate (12; 20), patch (14; 26) disposed on the substrate, a ground plane (22) disposed on the substrate below the patch, wherein the ground plane horizontally extends beyond the patch and a conductive planar arrangement (24; 36; 36') at least partially laterally surrounding the patch.
(FR) La présente invention concerne un élément d'antenne patch comprenant un substrat (12; 20), un patch (14; 26) disposé sur le substrat, un plan de masse (22) disposé sur le substrat, en dessous du patch, le plan de masse s'étendant horizontalement au-delà du patch et un agencement planaire conducteur (24; 36; 36; 36') entourant au moins partiellement latéralement le patch.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)