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1. (WO2018063471) MÉTROLOGIE OPTIQUE EN CHAMP PROCHE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/063471 N° de la demande internationale : PCT/US2017/041404
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 10.07.2017
CIB :
G01B 11/02 (2006.01) ,G01B 9/02 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION[US/US]; Legal Dept. 1 Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventeurs : PASKOVER, Yuri; IL
MANASSEN, Amnon; IL
LEVINSKI, Vladimir; IL
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M.N.; US
Données relatives à la priorité :
15/599,88119.05.2017US
62/400,62728.09.2016US
Titre (EN) OPTICAL NEAR-FIELD METROLOGY
(FR) MÉTROLOGIE OPTIQUE EN CHAMP PROCHE
Abrégé : front page image
(EN) Systems and methods are provided which utilize optical microcavity probes to map wafer topography by near-field interactions therebetween in a manner which complies with high volume metrology requirements. The optical microcavity probes detect features on a wafer by shifts in an interference signal between reference radiation and near-field interactions of radiation in the microcavities and wafer features, such as device features and metrology target features. Various illumination and detection configurations provide quick and sensitive signals which are used to enhance optical metrology measurements with respect to their accuracy and sensitivity. The optical microcavity probes may be scanned at a controlled height and position with respect to the wafer and provide information concerning the spatial relations between device and target features.
(FR) L'invention concerne des systèmes et des procédés qui utilisent des sondes à microcavité optique pour mapper une topographie de tranche par des interactions en champ proche entre celles-ci d'une manière qui est conforme aux exigences de métrologie de volume élevé. Les sondes à microcavité optique détectent des caractéristiques sur une tranche par des décalages dans un signal d'interférence entre le rayonnement de référence et les interactions en champ proche du rayonnement dans les microcavités et les caractéristiques de tranche, telles que des caractéristiques de dispositif et des caractéristiques de cible de métrologie. Diverses configurations d'éclairage et de détection fournissent des signaux rapides et sensibles qui sont utilisés pour améliorer des mesures de métrologie optique par rapport à leur précision et à leur sensibilité. Les sondes à microcavité optique peuvent être balayées à une hauteur et à une position contrôlées par rapport à la tranche et fournir des informations concernant les relations spatiales entre les caractéristiques de dispositif et les caractéristiques cibles.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)